磁控溅射ZnO薄膜的三阶非线性光学特性

发布时间：2018-03-19 19:27

  本文选题：磁控溅射　切入点：氧化锌薄膜　出处：《吉林大学学报(理学版)》2017年01期 　论文类型：期刊论文

【摘要】：采用磁控溅射技术在SiO_2衬底上制备ZnO薄膜,并通过X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外-可见分光光度计和荧光光谱仪对薄膜的晶体结构、表面形貌、带隙宽度和光致发光性质进行测试表征,结合飞秒激光(波长为800nm,脉宽50fs)和Z扫描方法测量该薄膜的三阶非线性光学特性.结果表明,其三阶非线性折射率和非线性吸收系数均为正值,分别为3.50×10-18 m2/W和2.88×10-11 m/W.
[Abstract]:ZnO thin films were prepared on SiO_2 substrates by magnetron sputtering. The crystal structure and surface morphology of the films were characterized by X-ray diffractometer, atomic force microscope, UV-Vis spectrophotometer and fluorescence spectrometer. The band gap width and photoluminescence properties were measured and characterized. The third-order nonlinear optical properties of the film were measured by femtosecond laser (wavelength 800 nm, pulse width 50 fs) and Z scan. The third-order nonlinear refractive index and nonlinear absorption coefficient are both positive, which are 3.50 脳 10 ~ (-18) m ~ (2 / W) and 2.88 脳 10 ~ (-11) m / W, respectively.
【作者单位】： 白城师范学院物理与电子信息学院;通化师范学院物理学院;
【基金】：国家自然科学基金(批准号:20873052) 吉林省教育厅“十二五”科学技术研究项目(批准号:2013499)
【分类号】：O484

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本文编号：1635669