周期性孔阵列金属表面附近的局域态密度

发布时间：2018-04-25 14:40

  本文选题：表面光学 + 表面等离子体激元　； 参考：《激光与光电子学进展》2017年07期

【摘要】：研究了具有周期性孔阵列的金属表面附近的电磁局域态密度(EM-LDOS),详细讨论了孔的填充因子和孔内填充介质对EM-LDOS的影响。相对于金属平板,具有孔阵列的金属表面附近的EM-LDOS的共振峰会发生分裂;随着填充因子的增加,横向表面等离子体激元的共振峰向低频方向移动,而纵向表面等离子体激元的共振峰向高频方向移动。当孔内填充具有更大介电常数的材料时,EM-LDOS谱中分裂的两个峰都会向低频方向移动,但低频峰的移动相对于高频峰的更为显著。
[Abstract]:The electromagnetic local density of states (EM-LDOS) near the metal surface with periodic pore arrays is studied. The effect of the filling factor of the holes and the filling medium in the pores on the EM-LDOS is discussed in detail. The resonance summit of the EM-LDOS near the metal surface with an array of holes splits relative to the metal plate, and with the increase of the filling factor, the resonance peak of the transverse surface plasmon shifts to the low frequency. The resonance peak of longitudinal surface plasmon shifts to high frequency. When the pore is filled with materials with a larger dielectric constant, the split peaks in the EM-LDOS spectrum will move in the direction of low frequency, but the shift of the low frequency peak is more significant than that of the high frequency peak.
【作者单位】： 南昌大学物理系;南昌大学高等研究院;
【基金】：国家自然科学基金(11264029,11664024,61367006) 江西省自然科学基金(2015BAB202017)
【分类号】：O485

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本文编号：1801758