微腔—量子点强耦合体系中的腔量子电动力学与调控
发布时间:2021-08-10 10:40
腔量子电动力学主要研究在微腔中光与物质的相互作用,是量子力学的一个重要部分。由于光与物质相互作用可提供光子与电子/激子的量子界面,从而进行能量与信息的交换,因此腔量子电动力学是量子信息的核心部分。半导体量子点是长寿命的固态量子光源,并且不需要复杂的固定方式就能够嵌入半导体材料。同时,光子晶体微腔具有高品质因子与小模式体积的优点,并且不同的光子晶体微腔能够通过光子晶体波导进行耦合。因此,光子晶体微腔-量子点系统是理想的固态量子信息载体,在实现片上集成的量子光学网络等方面有着广泛的应用前景。然而,由于腔-点系统的制备过程复杂,需要的加工精度较高,国内在这一领域的研究尚属空白。并且,目前国际上对于腔-点系统的研究,主要集中在量子点基态的单个激子上。通常量子点的基态波函数较小,与微腔的耦合可以用简单的偶极近似来分析。这样的系统耦合强度通常较小,只有一个光子参与耦合过程,并且由于固态系统的特性,腔-点系统难以调控。这些不足之处很大程度上限制了腔-点系统的进一步发展。通过数年的努力,我们成功制备出高品质因子的光子晶体微腔,并实现了微腔-量子点强耦合系统,填补国内在该领域的空白。光子晶体的制备需要电...
【文章来源】:中国科学院大学(中国科学院物理研究所)北京市
【文章页数】:93 页
【学位级别】:博士
【部分图文】:
量子光学网络示意图
图 1-3 二维光子晶体的能带结构。横坐标为晶向,纵坐标为能量[5]。3 The energy level structure of 2D photonic crystal. X-axis is the crystal orientatY-axis is the energy[5].图 1-3 中,紫色背景表示不能满足全内反射条件的区域,在这个区从垂直方向上耗散出去,因此二维平板光子晶体在这个区域内无法和带隙。相对地,白色背景表示能够满足全内反射条件的区域,在光子会被全内反射限制在平板之内,所有光子能带都在这个范围之对应的是 TE 模式,即模式的电场沿水平方向,磁场沿垂直方向; TM 模式,即模式的电场沿垂直方向,磁场沿水平方向。从图中可以 模式的第一能带和第二能带之间,即存在如淡红色所示的区域。该,在垂直和水平方向上均无法传播,从而形成了光子禁带。同时,TM 模式的能带比较复杂。因此,对于二维平板光子晶体,一般主要
InAs 量子点是由于 InAs 和 GaAs 之间的晶格失配形成的[25]。图 1-5 是样品结构示意图。由上往下看,首先是一层 170nm 厚的 GaAs 平板,其正中间生长着一层 InAs 量子点。由于自组织量子点的生长特性,量子点下方有一层约 10 个原子厚度的湿层。最下方 30nm 厚的 GaAs 做了掺杂,以方便将来接上电极。GaAs 平板下方是大约 1 厚的 AlGaAs 牺牲层。在上方 GaAs 层中刻蚀出光子晶体图案后,即可用氢氟酸 HF 溶液刻蚀光子晶体下方的 AlGaAs 牺牲层,使得二维平板光子晶体上下方向都是空气或真空。牺牲层下方是一个 13 层的分布布拉格反射镜
【参考文献】:
期刊论文
[1]电子束曝光技术[J]. 王顺祺,黎辉活. 物理. 1974(03)
本文编号:3333910
【文章来源】:中国科学院大学(中国科学院物理研究所)北京市
【文章页数】:93 页
【学位级别】:博士
【部分图文】:
量子光学网络示意图
图 1-3 二维光子晶体的能带结构。横坐标为晶向,纵坐标为能量[5]。3 The energy level structure of 2D photonic crystal. X-axis is the crystal orientatY-axis is the energy[5].图 1-3 中,紫色背景表示不能满足全内反射条件的区域,在这个区从垂直方向上耗散出去,因此二维平板光子晶体在这个区域内无法和带隙。相对地,白色背景表示能够满足全内反射条件的区域,在光子会被全内反射限制在平板之内,所有光子能带都在这个范围之对应的是 TE 模式,即模式的电场沿水平方向,磁场沿垂直方向; TM 模式,即模式的电场沿垂直方向,磁场沿水平方向。从图中可以 模式的第一能带和第二能带之间,即存在如淡红色所示的区域。该,在垂直和水平方向上均无法传播,从而形成了光子禁带。同时,TM 模式的能带比较复杂。因此,对于二维平板光子晶体,一般主要
InAs 量子点是由于 InAs 和 GaAs 之间的晶格失配形成的[25]。图 1-5 是样品结构示意图。由上往下看,首先是一层 170nm 厚的 GaAs 平板,其正中间生长着一层 InAs 量子点。由于自组织量子点的生长特性,量子点下方有一层约 10 个原子厚度的湿层。最下方 30nm 厚的 GaAs 做了掺杂,以方便将来接上电极。GaAs 平板下方是大约 1 厚的 AlGaAs 牺牲层。在上方 GaAs 层中刻蚀出光子晶体图案后,即可用氢氟酸 HF 溶液刻蚀光子晶体下方的 AlGaAs 牺牲层,使得二维平板光子晶体上下方向都是空气或真空。牺牲层下方是一个 13 层的分布布拉格反射镜
【参考文献】:
期刊论文
[1]电子束曝光技术[J]. 王顺祺,黎辉活. 物理. 1974(03)
本文编号:3333910
本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/wulilw/3333910.html
最近更新
教材专著