静/动态刻蚀对熔石英表面质量和激光损伤的影响

发布时间：2021-11-19 03:00

　　为了研究静/动态刻蚀过程中熔石英表面质量和抗激光损伤性能的演变规律,优化化学刻蚀工艺,使用HF酸缓冲液对熔石英分别进行了不同时间的静/动态刻蚀处理。实验表明,由于兆声场辅助搅拌作用,熔石英动态刻蚀的刻蚀速率快于静态刻蚀。动态刻蚀后熔石英表面均方根（RMS）粗糙度和反射面形分别为<1nm和0.46λ,其3倍频透射率先小幅增加后保持稳定,相比初始表面增加约0.1%。而静态刻蚀使得表面RMS粗糙度和反射面形分别增加至⁵nm和0.82λ,其3倍频透射率先基本不变后下降,相比初始表面下降约0.4%。二者损伤阈值呈现明显不同变化规律:静态刻蚀使熔石英损伤阈值先小幅增加约30%后逐渐降低,动态刻蚀使熔石英损伤阈值增加近一倍后保持相对稳定。结果表明,动态刻蚀后熔石英光学元件性能明显优于静态刻蚀。 

【文章来源】：应用光学. 2017,38(05)北大核心CSCD

【文章页数】：7 页

【文章目录】：
引言
1 实验过程
2 HF酸刻蚀原理
3 实验结果与分析
    3.1 刻蚀速率
    3.2 表面粗糙度与反射面形
    3.3 透射率
    3.4 抗激光损伤性能
4结论


【参考文献】：
期刊论文
[1]光学元件兆声辅助化学刻蚀工艺参数优化[J]. 王洪祥,李成福,周岩,袁志刚,徐曦,钟波.  强激光与粒子束. 2015(11)
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[3]熔石英亚表面微缺陷原位表征及损伤阈值研究[J]. 蒋勇,袁晓东,向霞,徐世珍,陈猛,王海军,郑万国,贺少勃,蒋晓东,吕海兵,陈清海,祖小涛.  光电子.激光. 2010(10)
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硕士论文
[1]酸蚀刻熔石英过程中再沉积物形成机理研究[D]. 殷玉春.西南科技大学 2016



本文编号：3504146