宽束径离子束抛光KDP晶体表面粗糙度特征研究

发布时间：2022-06-03 22:11

　　为了研究离子束抛光KDP晶体工艺参数对表面粗糙度的影响,实现对KDP晶体的抛光,文中使用微波离子源对KDP晶体进行抛光加工,采用非接触式表面轮廓仪对抛光后晶体的表面粗糙度进行测量。基于离子束溅射模型分析离子束水平入射角对抛光结果的影响,并结合实验进行验证;通过实验研究离子束入射能量、氩气流量和抛光时间对抛光结果的影响;根据工艺参数对抛光结果的影响特性设计正交实验,探索离子束刻蚀抛光KDP晶体最优工艺。研究结果表明:抛光后的晶体表面粗糙度随着离子束水平入射角的增大而降低;对于入射离子束能量,抛光后的晶体表面粗糙度在200～400 eV范围内有下降趋势,其中在400 eV出现最小值,当入射能量进一步提高时,表面粗糙度将逐渐变大。对于氩气流量,在氩气流量为20～30 sccm范围内出现粗糙度最小值,随着氩气流量进一步增大,粗糙度变大。对于加工时间,抛光时间由22 min增大到44 min时,表面粗糙度有所降低,随着加工时间继续增大,粗糙度变大,表面朝恶化趋势发展;离子束抛光KDP晶体最佳工艺参数为:离子束压400 eV,氩气流量25 sccm、抛光时间44 min,将尺寸为50 mm×50 ... 

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【文章目录】：
1 实验设备及方法
    1.1 实验设备及样品
    1.2 实验方法
    1.3 测量设备及结果的表征
2 离子束抛光KDP晶体理论模型
3 结果与讨论
    3.1 离子束水平入射角对抛光结果的影响
    3.2 入射能量对KDP晶体表面粗糙度的影响
    3.3 氩气流量对KDP晶体表面粗糙度的影响
    3.4 抛光时间对KDP晶体表面粗糙度的影响
4 离子束抛光KDP晶体最优参数获取
5 结 论


【参考文献】：
期刊论文
[1]离子束加工KDP晶体材料表面粗糙度演变[J]. 冯殊瑞,解旭辉,周林,袁征.  航空精密制造技术. 2012(06)
[2]激光核聚变光学元件超精密加工技术的研究[J]. 杨福兴.  光学技术. 2003(06)

博士论文
[1]KDP晶体离子束抛光理论与工艺研究[D]. 袁征.国防科学技术大学 2013

硕士论文
[1]大口径光学元件离子束沉积修正抛光工艺研究[D]. 王泉.西安工业大学 2018
[2]KDP晶体离子束清洗工艺技术研究[D]. 邓鸿飞.国防科学技术大学 2015
[3]KDP晶体微纳表层缺陷对其激光损伤阈值影响的研究[D]. 刘新艳.哈尔滨工业大学 2007



本文编号：3653568