投影光刻物镜波像差的公差分析方法

发布时间：2017-10-21 20:17

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【摘要】：为保证投影光刻物镜的成像性能并降低制造成本,提出了一种更全面可靠的公差分析方法。该方法在以波像差均方根(RMS)值作为评价标准的传统分析方法基础上,添加波像差峰谷(P-V)值作为评价指标,并据此选择合理的补偿器组合。在系统波像差的RMS值和P-V值均满足要求的情况下,采用了较少的补偿器,从而有效地降低了系统的制造难度和成本。结合实验室设计的一套90nm投影光刻物镜进行了公差分析和补偿器优选。结果表明,利用该方法选择的7个补偿器,使得系统在97.7%置信区间内,全视场波像差的RMS值≤0.0412λ,P-V值≤0.2469λ,满足了90nm投影光刻物镜的像质要求。
【作者单位】： 北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室;
【关键词】： 成像光学 公差分析 波像差 投影光刻物镜 补偿器
【基金】：国家科技重大专项 国家自然基金重点项目(60938003) 北京高等学校青年英才计划项目资助课题
【分类号】：TH74
【正文快照】： 0引言材料、加工和装配等误差会严重影响投影光刻物镜的实际成像质量[1],因此除了在物镜设计阶段尽可能地提高像质,还需要在实际制造过程中严格控制每项公差。但过于严格的公差会增加制造难度982和成本,甚至无法实现加工制造。因此,需要通过公差分析,添加像质补偿元件来放松公

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本文编号：1075069