次世代微影术及其非破坏式光学量测系统之研究

发布时间：2017-12-01 17:15

  本文关键词：次世代微影术及其非破坏式光学量测系统之研究

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【摘要】：正本论文可概分为三部分:1改善用于极紫外光(Extreme ultraviolet,EUV)微影系统之多层膜反射镜之反射率以及其等效计算方法;2开发用于多尺度(multi-scale)电子束直写(Electron-beam directwrite,EBDW)微影系统之数值计算方法;3开发非破坏式光学检测系统用于量测光阻线(photo-resist lines)之几何外形与多层膜彩色滤光片(color filter)之光学性质。对于极紫外光反射镜之研究,我们设计了以40层钼/硅多层膜为基底之光子晶体(photonic crystal)反射镜。从数值结果得
【作者单位】： 中国台湾大学;
【分类号】：TH74
【正文快照】： 本论文可概分为三部分:1改善用于极紫外光(Extreme ultraviolet,EUV)微影系统之多层膜反射镜之反射率以及其等效计算方法;2开发用于多尺度(multi-scale)电子束直写(Electron-beam directwrite,EBDW)微影系统之数值计算方法;3开发非破坏式光学检测系统用于量测光阻线(photo-res

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本文编号：1241849