光栅刻划机衍射波前质量的主动控制校正方法

发布时间：2017-12-03 07:14

  本文关键词：光栅刻划机衍射波前质量的主动控制校正方法

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【摘要】：衍射波前质量是刻划光栅的重要性能指标之一,对于机械刻划光栅,刻划机的刻线定位精度直接影响光栅的波前质量。建立了刻划机固有存在的刻线位置和转角误差与光栅衍射波前误差间的数学关系,分析了各误差对衍射波前质量的影响。针对该误差设计了一种基于双频激光干涉测量的刻划机刻线位置和转角误差测量的光路,并提出了一种主动控制技术,即采用单压触动器校正刻线位置和转角误差的方法。根据该校正方法设计了刻划机的双层光栅承载工作台结构,并进行了尺寸为80 mm×60 mm、刻线密度为194 line/mm的光栅刻划实验。实验结果表明,刻划光栅的衍射波前误差由0.23λ降低至0.093λ(λ=632.8 nm),并且原子力显微镜测试光栅刻槽质量符合理论设计要求。
【作者单位】： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;中国科学院大学;
【基金】：国家973计划(2014CB049500) 国家重大科研装备研制项目(ZDYZ2008-1) 吉林省重大科技攻关项目(09ZDGG005)
【分类号】：TH74
【正文快照】： 1引言光栅是一种分光元件,广泛应用于各类光谱仪器中[1-2],光栅的光谱性能直接影响光谱仪的光谱解析能力,而光栅的波前质量直接决定了光栅的光谱线质量和分辨本领。作为制作刻划光栅的衍射光栅刻划机由刻划系统和分度系统组成[3-4]。刻划系统主要由鞍型滑块(带动刀架系统做往

【参考文献】

中国期刊全文数据库 前6条

1 刘玉娟;崔继承;巴音贺希格;陈少杰;齐向东;唐玉国;;凸面光栅成像光谱仪的研制与应用[J];光学精密工程;2012年01期

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中国博士学位论文全文数据库 前1条

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【共引文献】

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本文编号：1247854