极紫外波段变栅距光栅刻槽密度变化及光谱分辨能力分析
本文选题：变栅距光栅 切入点：球面波 出处：《发光学报》2015年09期 论文类型：期刊论文
【摘要】：针对应用于50~150 nm波段的变栅距光栅,采用球面波曝光系统进行优化设计,分析了不同宽度光栅的刻槽密度变化和光谱分辨能力。理论分析结果表明,光栅宽度为4 mm时,理论分辨能力高于14 000;光栅宽度为10 mm时,理论分辨能力约为9 000;光栅宽度为30 mm时,理论分辨能力急剧下降,约为3 000。光栅的宽度越大,其刻槽弯曲程度就越大,光栅的光谱分辨能力就越低,因此球面波曝光系统只适合制作宽度较小的变栅距光栅。
[Abstract]:A spherical wave exposure system is used to optimize the design of a variable-grid grating applied in the 50nm 150 nm band. The groove density and spectral resolution of the grating with different widths are analyzed. The theoretical analysis results show that the grating width is 4 mm. The theoretical resolution is higher than 14,000; when the grating width is 10 mm, the theoretical resolution is about 9,000; when the grating width is 30 mm, the theoretical resolution decreases sharply, about 3,000. The spectral resolution of the grating is lower, so the spherical wave exposure system is only suitable for fabricating the variable-grid grating with smaller width.
【作者单位】： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;
【基金】：国家重大科学仪器设备开发专项资金(2011YQ120023)资助项目
【分类号】：TH744.1
【参考文献】
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3 姜岩秀;韩建;李文昊;巴音贺希格;;平面全息光栅曝光系统中的分光器件特性分析[J];中国光学;2015年02期
【共引文献】
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2 姜岩秀;韩建;李文昊;巴音贺希格;;平面全息光栅曝光系统中的分光器件特性分析[J];中国光学;2015年02期
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【二级参考文献】
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本文编号：1628335
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