光学元件离子束修形去除效率分析
本文选题:离子束修形 切入点:去除效率 出处:《纳米技术与精密工程》2014年05期 论文类型:期刊论文
【摘要】:离子束修形(IBF)技术成为光学零件获得超高面形必不可少的加工工艺.修形过程中采用光阑获取小的束径、稳定的去除函数是获得超高面形精度的前提.不同材料和工艺参数等不同条件下获得的去除函数都不相同,每次修形前都要重新测量去除函数.研究了不同入射能下、不同靶距下以及有无光阑时去除函数的变化.发现在离子光学系统几何参数一定的条件下,离子束去除函数的效率变化与入射能量、离子体浓度引起的离子鞘形状、束散角、温度、靶距、净加速电压与总加速电压之比的变化等因素都有关.当增大入射能量时,去除效率随之增加,但当入射能量大于一定值后就会出现随着入射能量增加而去除效率降低的"拐点"现象.有无光阑只改变去除效率的大小而不会改变"拐点"现象.因此不选用入射能量增大而去除效率减小的"拐点"之后的入射能量修形.
[Abstract]:Ion beam modification (IBF) technology has become an essential process for optical parts to obtain ultra-high profile. In the process of shape modification, the diaphragm is used to obtain small beam diameters. The stable removal function is the precondition to obtain the precision of ultra-high plane shape. The removal function obtained under different conditions, such as different material and process parameters, is different, and the removal function must be remeasured before each modification. It is found that under certain geometric parameters of ion optical system, the efficiency of ion beam removal function changes with incident energy, ion sheath shape and beam divergence angle caused by ion body concentration. Factors such as temperature, target distance, net acceleration voltage and the ratio of total acceleration voltage are all related. When the incident energy is increased, the removal efficiency increases. However, when the incident energy is greater than a certain value, the phenomenon of "inflection point" will occur when the incident energy increases and the removal efficiency decreases with the increase of the incident energy. With or without an aperture, the removal efficiency will only be changed, but not the "inflection point". Therefore, the phenomenon of "inflection point" will not be changed. The incident energy is modified after the "inflection point" of reduced efficiency is removed by increasing the incident energy.
【作者单位】: 国防科学技术大学机电工程与自动化学院;
【基金】:国家自然科学基金资助项目((91023042,51105370)
【分类号】:TH74
【参考文献】
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【共引文献】
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【二级参考文献】
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,本文编号:1642261
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