强光光学元件加工技术发展

发布时间：2023-10-15 15:07

　　面向强光光学元件的低损伤制造,概述了关联激光损伤性能的损伤前驱体检测表征方法,提出纳米尺度污染与化学结构缺陷等损伤前驱体是低损伤加工过程需要关注的焦点;结合光学元件加工方法的发展进程,探讨了基于化学辅助磁流变抛光和离子束溅射清洗技术的纳米损伤前驱体的抑制方法,以有效减少纳米级污染和化学结构缺陷;提出强光光学元件制造面临的三个挑战,为实现强光光学元件清洁制造提供参考。

【文章页数】：10 页

【文章目录】：
0 引言
1 强光元件纳米损伤前驱体的检测表征技术
2 强光元件加工方法发展进程
3 强光元件加工方法新发展
4 面临的挑战
5 结论



本文编号：3854138