拼接干涉技术在同步辐射领域的发展现状及趋势

发布时间：2017-07-27 10:26

  本文关键词：拼接干涉技术在同步辐射领域的发展现状及趋势

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【摘要】：针对同步辐射领域光学元件的口径逐渐增大,其面形测量精度的要求已达到纳弧度级的问题,本文研究了该领域先进的面形测量方法——拼接干涉技术,以实现光学元件的高分辨率二维测量。介绍了拼接干涉技术的基本原理,综述了目前同步辐射光学领域常用的面形测量设备——激光光束长程面形仪、高精度自准直纳米测量仪,以及拼接干涉仪的发展历程和特点,比较了它们各自的缺点和优势。最后,分析了拼接干涉涉及的主要误差来源,指出该技术的应用和发展趋势主要有拼接算法的创新,干涉仪测量的快速化,拼接干涉仪的商业化,以及拼接干涉技术与其他科学技术的融合等。
【作者单位】： 中国科学院高能物理研究所北京同步辐射装置X射线光学与技术实验室;
【关键词】： 光学元件 面形检测 拼接干涉术 同步辐射 综述
【基金】：国家自然科学基金青年基金资助项目(No.11005123)
【分类号】：TH744.3
【正文快照】： 1引言自20世纪80年代以来,同步辐射光源在世界范围内得到了广泛的应用,并已经成为材料、化学、生命等科学领域不可替代的研究工具[1-2]。随着光源的广泛使用,各种研究对光源的要求也越来越高。光源质量受光束线部分影响,其中单色器、准直镜等的精度则起到较大作用。X光反射光

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6 田扬超;刘刚;洪义麟;郭育华;熊瑛;阚娅;;LIGA实验站的设计及应用[J];中国科学技术大学学报;2007年Z1期

7 王传基;赵安庆;;同步辐射光束线中的光学元件及单色仪[J];光学机械;1983年06期

8 吕丽军;郭斌均;;同步辐射与XUV光学[J];光学仪器;1992年02期

9 查长生;高压下的同步辐射X射线衍射研究[J];物理;1989年06期

10 刘景,王渭,郑红卫,王莫托,何玮,张宜娟,谢琦,舒德明,赵理曾,聂玉昕,宋增福;利用同步辐射进行X射线激发光学发光研究[J];光谱学与光谱分析;1992年02期

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本文编号：580963