基于AFM氮化硅探针刻蚀方法制作聚碳酸酯纳米光栅

发布时间：2017-10-09 05:41

  本文关键词：基于AFM氮化硅探针刻蚀方法制作聚碳酸酯纳米光栅

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【摘要】：基于原子力显微镜(AFM)探针的纳米机械刻蚀技术以其成本低、分辨率高的优势被广泛应用于各种纳米元器件的制造中.为了得到最优的光栅结构,首先通过单次刻蚀实验定量分析了刻蚀方向、加载力和刻蚀速率等3个主要加工参数对所得纳米沟槽形貌和尺寸的影响,给出了普通氮化硅探针对聚碳酸酯(PC)的加工特性及加工效率.然后通过改变沟槽间距(100~500 nm)得到了不同周期的纳米光栅结构,并确定了这种探针与样品的组合对间距的要求及最佳加工参数:沿垂直于微悬臂长轴向右刻蚀,加载力2.3μN,刻蚀速率2.6μm/s.最后利用该技术对实验室已有原子光刻技术所得周期为213 nm的一维Cr原子光栅结构进行了复制加工,得到了均匀的213 nm一维光栅,证明这种基于AFM探针的纳米机械刻蚀技术可被广泛应用于纳米加工.
【作者单位】： 同济大学物理科学与工程学院;
【关键词】： 原子力显微镜 微纳加工 机械加工性 纳米光栅
【基金】：国家自然科学基金资助项目(10804084,91123022) 中国科学院纳米器件与应用重点实验室开放基金资助项目(14CS01)
【分类号】：TH742
【正文快照】： 由电子束刻蚀、反应离子刻蚀[1]、全息术等传统工艺制作的纳米光栅被广泛用于包括激光器、单色仪、光波导耦合器、光谱仪、波分复用器件等光学仪器中,但这些传统工艺普遍存在加工极限,且工艺复杂,成本较高,制约着纳米光栅的进一步应用.因此,有必要研究一种高分辨率、低成本、

【参考文献】

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本文编号：998474