基于4晶体管像素结构的互补金属氧化物半导体图像传感器总剂量辐射效应研究

发布时间：2017-10-15 22:06

  本文关键词：基于4晶体管像素结构的互补金属氧化物半导体图像传感器总剂量辐射效应研究

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【摘要】：对基于4晶体管像素结构互补金属氧化物半导体图像传感器的电离总剂量效应进行了研究,着重分析了器件的满阱容量和暗电流随总剂量退化的物理机理.实验的总剂量为200 krad(Si),测试点分别为30 krad(Si),100 krad(Si),150 krad(Si)和200 krad(Si),剂量率为50 rad(Si)/s.实验结果发现随着辐照总剂量的增加,器件的满阱容量下降并且暗电流显著增加.其中辐照使得传输门沟道掺杂分布发生改变是满阱容量下降的主要原因,而暗电流退化则主要来自于浅槽隔离界面缺陷产生电流和传输门-光电二极管交叠区产生电流.实验还表明样品器件的转换增益在辐照前后未发生明显变化,并且与3晶体管像素结构不同,4晶体管像素结构的互补金属氧化物半导体图像传感器没有显著的总剂量辐照偏置效应.
【作者单位】： 中国科学院特殊环境功能材料与器件重点实验室 新疆电子信息材料与器件重点实验室 中国科学院新疆理化技术研究所;中国科学院大学;
【关键词】： 互补金属氧化物半导体图像传感器 电离总剂量效应 钳位二极管 满阱容量
【分类号】：TP212;TN32
【正文快照】： 1引言相比于电荷耦合元件(charge-coupled device,CCD)图像传感器,互补金属氧化物半导体(com-plementary metal oxide semiconductor,CMOS)图像传感器有着低功耗、高集成度和价格低等优势[1],且近些年随着半导体工艺和CMOS图像传感器技术的发展,尤其是4晶体管(transistor,T)像

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