CMOS传感器紫外敏化膜层的厚度优化及其光电性能测试

发布时间：2018-08-27 17:21

【摘要】：采用真空热阻蒸方式在CMOS图像传感器感光面上镀制不同厚度性比价高的Lumogen薄膜.研究发现不同Lumogen薄膜厚度的CMOS传感器的暗电流噪声未发生明显变化,说明真空热蒸发方式对互补金属氧化物半导体器件本身未造成热损伤;光响应非均匀度随膜厚增加而增大;动态范围却随膜厚增加而减小;量子效率随膜厚增加呈现先增大后减小.同时,研究发现敏化膜层最佳厚度为389nm,此时CMOS传感器的量子效率提高了10%,且光响应非均匀度,动态范围均在相对较好的范围内.
[Abstract]:Lumogen thin films with different thickness and high price were deposited on the photosensitive surface of CMOS image sensor by vacuum thermal resistance. It is found that the dark current noise of CMOS sensors with different thickness of Lumogen films does not change obviously, which indicates that the vacuum thermal evaporation does not cause thermal damage to the complementary metal oxide semiconductor devices, and the non-uniformity of optical response increases with the increase of film thickness. The dynamic range decreases with the increase of film thickness, and the quantum efficiency increases first and then decreases with the increase of film thickness. At the same time, it is found that the optimal thickness of the sensitized film is 389nm, and the quantum efficiency of the CMOS sensor increases by 10%, and the optical response is non-uniform, and the dynamic range is in a relatively good range.
【作者单位】：上海理工大学光电信息与计算机工程学院上海市现代光学系统重点实验室教育部光学仪器与系统工程研究中心;
【基金】：上海高校青年教师培养资助计划~~
【分类号】：TP212

【参考文献】

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5 张大伟;田鑫;黄元申;倪争技;庄松林;;CCD紫外敏感Lumogen薄膜制备与光谱表征[J];光谱学与光谱分析;2010年05期

6 刘猛;张大伟;谢品;倪争技;黄元申;;增强光电图像传感器紫外探测薄膜的制备[J];仪表技术与传感器;2009年09期

7 韩采芹;陶跃珍;李华;沈忙作;;不同光照条件下数字CCD相机响应不均匀性研究[J];江西师范大学学报(自然科学版);2009年04期

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10 王丽辉;王孝坤;陈波;;增强CCD紫外和极紫外成像的荧光物质的研究[J];光学技术;2006年S1期

【共引文献】

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5 杜传耀;张春波;马京津;李栋;蔡青;;利用积分球对CCD线性和面均匀性的标定[J];计测技术;2014年06期

6 殷建;柏朝晖;张希艳;尤莹;周江山;张磊;;LaPO_4∶Ce~(3+),Tb~(3+)荧光屏的制备及表征[J];硅酸盐学报;2014年06期

7 何梁;张大伟;陶春先;洪瑞金;黄元申;;旋涂法和热蒸发制备紫外CCD用晕苯薄膜的性能对比[J];光谱学与光谱分析;2014年05期

8 卢忠荣;倪争技;陶春先;洪瑞金;张大伟;黄元申;;MgF_2薄膜对荧光薄膜紫外响应灵敏度的增强特性研究[J];光谱学与光谱分析;2014年03期

9 叶娜;陈治明;谢龙飞;;A feasibility study on SiC optoinjected CCD with buried channels[J];Journal of Semiconductors;2013年11期

10 姜霖;张大伟;陶春先;黄元申;王琦;倪争技;庄松林;;紫外增强Lumogen薄膜旋涂法制备及其性能表征[J];光谱学与光谱分析;2013年02期

【二级参考文献】

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1 杜晨光;孙利群;丁志田;;利用晕苯增强CCD紫外响应的实验研究[J];光学技术;2010年05期

2 韩文峰;萧泽新;张杰;;基于价值工程提升CCD器件应用价值的经济性研究[J];光学技术;2008年S1期

3 司伟;姜妲;高宏;王修慧;翟玉春;;Ca~(2+)、La~(3+)掺杂纳米Y_2O_3:Eu~(3+)的超声波制备及光致发光性能[J];稀土;2008年05期

4 田鑫;张大伟;黄元申;倪争技;庄松林;;成像器件紫外增强薄膜技术研究进展[J];激光杂志;2008年05期

5 尚淑珍;赵祖欣;邵建达;;沉积温度对热舟蒸发MgF_2薄膜性能的影响[J];强激光与粒子束;2008年03期

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