高性能半导体气体传感器的设计策略及p-n核壳纳米纤维传感特性的研究
【学位授予单位】:吉林大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2019
【分类号】:TP212
【图文】:
当工作温度<邋150°C、150°C和400DC之间以及>邋400°C时,表面吸附的氧逡逑负离子分别为02_、0_和02_n3]。氧气的吸附会导致材料表面附近出现高阻态电逡逑子耗尽层(EDL)(图1.2a)。对于p型半导体,氧负离子的形成会导致在材料表逡逑面形成低阻态空穴积累层(HAL)(图1.2b)邋由于n型和p型金属氧化物半导逡逑体中的多数载流子分别是电子和空穴,它们会显示出不同的气体传感特性,如逡逑表1所示。以n型半导体ZnO为例。在空气中,ZnO中的电子被氧气分子捕获,逡逑形成EDL,使材料的电阻增加。在这种情况下,如果引入一种还原气体,氧负逡逑离子会与气体发生反应,捕获的电子会释放回材料中,导致材料电阻的降低。逡逑当接触氧化性气体时,材料将进一步被氧化。因此,EDL的厚度以及材料的电逡逑阻都会增加。p型半导体如表1所示,表现出与n型半导体相反的特性。逡逑(a)逦n-type邋oxide逦\逡逑semiconductors邋)逦)逦、一^邋Semicon_邋co『e逡逑vV邋^Fe*邋^逦f邋1邋(tow邋resistance)逡逑Electron邋depletion邋layer逡逑^逦(high邋resistance)逡逑(
体传感性能,因此在材料表面暴露更多高能晶面有重要意义。在实验过程中,逡逑通过调整热力学或动力学因素,可以成功制备表面暴露出高能晶面的晶体材料逡逑(图1.3)邋从热力学的角度来看,采用机表面活性剂、聚合物、小分子或离逡逑子在生长过程中选择性地覆盖或吸附在特定晶面上,使其表面能降低,迫使晶逡逑面暴露[36°81。动力学控制是调整微晶、纳米晶形状和表面结构的另一种有效方逡逑法。实际上,晶体生长的条件常常与平衡条件有很大的不同,在非平衡条件下,逡逑晶体的形状不是唯一的,晶体成核和生长过程中晶体的生长速率等动力学参数逡逑对晶体形状的影响很大。与调控热力学因素相比,控制动力学因素更加的复杂逡逑5逡逑
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本文编号:2725001
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