碳膜层累积过程及电位计喷涂加工工艺研究

发布时间：2025-01-01 09:42

　　碳膜电位计因为精度高稳定性好被广泛应用于航空航天等高精尖领域。目前我国主要通过喷涂法来制造精密碳膜电位计。但是由于部分工艺原因,及相关理论的欠缺,碳膜电位计的制造存在精度不能满足要求,需要多次返工喷涂,这样就会导致电位计生产周期变长,以及原料的浪费。本文将从碳膜电位计累积机理入手,通过对碳膜电位计喷涂过程中雾化理论进行分析,首先从理论角度分析碳膜电位计喷涂过程中对其精度产生影响的因素。然后结合实际生产,对影响碳膜电位计精度的工艺因素进行分析归类。根据实际喷涂过程中喷枪及基板的结构,建立碳膜电位计喷涂模型。然后根据已有模型,利用有限元分析软件,对相关因素进行仿真分析,通过对仿真结果进行处理,确定后续试验所用因素,并对已有理论进行初步验证。应用无损检测技术,对碳膜电位计膜层厚度均匀性进行分析检测,通过对比碳膜电位计线性度与膜层均匀度,得出二者之间评价关系。并利用膜层检测结果对仿真及理论分析进行验证。最后,根据实际生产需求,对碳膜电位计喷涂设备进行改装,以期减少电位计喷涂过程因漏液导致的工件报废现象。由于碳膜电位计喷涂基体材料较为昂贵,同时实验量较大,所以在不影响实验结果的前提下寻找碳膜电位计...

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【学位级别】：硕士

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本文编号：4022403