阴离子改性抛光剂对磷酸盐激光钕玻璃抛光的影响

发布时间：2022-10-08 14:51

　　为了改善氧化铈抛光液的性能,在不破坏钕玻璃表面质量的前提下提高钕玻璃的抛光效率,选择在氧化铈抛光液中加入阴离子表面活性剂雷米邦A,并研究了改性后的抛光液对氧化铈抛光液中粒子粒径、钕玻璃的材料去除率和抛光后钕玻璃表面质量的影响,分析了加入不同质量分数雷米邦A的抛光液在不同pH值下对钕玻璃抛光速率和抛光质量的影响。结果表明:雷米邦A能够抑制抛光液中纳米粒子的团聚,降低氧化铈的中位粒径,提高抛光效率。当二氧化铈质量分数为3%、pH为6.5、雷米邦A质量分数为0.30%时,材料去除率达到最大值169 nm/min;当二氧化铈质量分数为3%、pH为7、雷米邦A质量分数为0.20%时,钕玻璃的表面粗糙度达到最小值0.9 nm。 

【文章页数】：5 页

【文章目录】：
1 引 言
2 实验条件与过程
    2.1 抛光液的制备
    2.2 化学机械抛光实验
    2.3 性能表征
3 结果与讨论
    3.1 不同质量分数雷米邦A对氧化铈粒子粒径的影响
    3.2 不同质量分数雷米邦A对钕玻璃化学机械抛光的影响
    3.3 不同pH值雷米邦A对钕玻璃化学机械抛光效果的影响
4 结 论


【参考文献】：
期刊论文
[1]抛光过程中光学元件表面划痕的形成和控制[J]. 汤文龙,梁尚娟,焦翔,樊全堂,尹进,朱健强.  中国激光. 2019(12)
[2]多杆机构复合摆动轨迹抛光方法对光学元件中频误差的抑制[J]. 赖璐文,刘志刚,焦翔,朱健强.  中国激光. 2019(11)
[3]改性抛光剂对光学玻璃抛光质量的影响[J]. 梁尚娟,汤文龙,焦翔,朱健强.  中国激光. 2017(12)
[4]浴法抛光中抛光粉粒径对去除效果影响的试验研究[J]. 张杨,徐清兰,陈梅,张蓉竹.  光学技术. 2014(06)
[5]磷酸盐激光玻璃的化学机械抛光[J]. 张宝安,朱健强,樊全堂.  中国激光. 2007(08)
[6]磷酸盐玻璃型阻垢剂的性能评估及溶解机理研究[J]. 汪山,程继健,陈奇.  无机材料学报. 2000(06)



本文编号：3687909