CH掺Si/Ge辐射烧蚀特性研究
发布时间:2023-06-10 12:29
在间接驱动惯性约束聚变中,激光烧蚀金腔壁产生X射线辐射,其中包括软X射线(0-2keV)和M带X射线(2-4keV)。软X射线射程短,主要被燃料层外面的烧蚀层所吸收。而M带X射线由于其平均自由程较长,可传输更远的距离,因此能在冲击波到达之前将燃料层预热。预热会降低靶丸的可压缩性,对实现点火不利。 为了抑制预热,可以有两种途径,一是降低辐射源中M带X射线所占的份额,其二是在烧蚀层中掺杂中高Z元素以抑制M带X射线的传输。本论文的主要工作都是围绕第二种途径来开展的。通过在CH层中掺杂Si和Ge可以起到抑制预热的作用,但同时,也会对内爆速度、RT不稳定性以及混合等产生不利影响。通过模拟及实验我们对掺杂烧蚀做了以下三方面的研究: 首先,我们通过Multi-1D模拟研究CH中透射能流与预热的关系。我们将预热分为两个过程:一是辐射源X射线穿透烧蚀层,形成透射能流,这可以看做是烧蚀层材料对辐射源谱的改造;第二,透射能流对燃料的预热。通过模拟研究对比薄靶的透射能流与厚靶的预热温度,我们发现,透射能流越高,预热温度也就越高。 第二,我们通过测量不同能区的透射能流来研究Si/Ge掺杂对辐射烧蚀的影响。在神光...
【文章页数】:70 页
【学位级别】:硕士
【文章目录】:
摘要
Abstract
目录
第1章 引言
1.1. 惯性约束聚变基本过程
1.2. 研究掺杂烧蚀的意义
1.3. 掺杂烧蚀新进展
1.4. 论文工作主要内容
参考文献
第2章 ICF中的预热
2.1. ICF中的预热现象
2.2. 掺杂元素与份额
2.3. 一维平面靶中的预热
参考文献
第3章 透射能流与预热的关系
3.1. Multi-1D简介
3.2. 一维平面靶的透射能流
3.2.1. 能谱改造
3.2.2. 薄靶与厚靶状态对比
3.2.3. 不同掺杂方式下的透射能流
3.3. 透射能流与预热温度
3.4. 本章小结
参考文献
第4章 Si/Ge掺杂烧蚀对比
4.1. Si、Ge不透明度对比
4.2. 神光-Ⅱ掺杂烧蚀实验
4.2.1. 靶及黑腔设计
4.2.2. 诊断设备及方法
4.2.3. 实验结果
4.3. 实验结果与模拟分析
4.3.1. Multi-1D模拟
4.3.2. 结果分析
4.3.3. 不透明度修正
4.4. 本章小结
参考文献
第5章 辐射源特性对掺杂烧蚀的影响
5.1. 辐射源谱特性
5.1.1. 非平衡辐射源的构造
5.1.2. M带X射线总量
5.2. CH(Si)均匀混合
5.2.1. CH(Si)混合不透明度
5.2.2. CH(Si)混合状态方程
5.3. 辐射源特性对掺杂烧蚀的影响
5.3.1. 不同M带份额fm下的烧蚀模拟
5.3.2. 不同辐射源温度下的烧蚀模拟
5.3.3. 不同掺杂份额下的烧蚀模拟
5.3.4. 结论
5.4. 本章小结
参考文献
第6章 总结与展望
6.1. 工作总结
6.2. 展望
致谢
附录
本文编号:3832885
【文章页数】:70 页
【学位级别】:硕士
【文章目录】:
摘要
Abstract
目录
第1章 引言
1.1. 惯性约束聚变基本过程
1.2. 研究掺杂烧蚀的意义
1.3. 掺杂烧蚀新进展
1.4. 论文工作主要内容
参考文献
第2章 ICF中的预热
2.1. ICF中的预热现象
2.2. 掺杂元素与份额
2.3. 一维平面靶中的预热
参考文献
第3章 透射能流与预热的关系
3.1. Multi-1D简介
3.2. 一维平面靶的透射能流
3.2.1. 能谱改造
3.2.2. 薄靶与厚靶状态对比
3.2.3. 不同掺杂方式下的透射能流
3.3. 透射能流与预热温度
3.4. 本章小结
参考文献
第4章 Si/Ge掺杂烧蚀对比
4.1. Si、Ge不透明度对比
4.2. 神光-Ⅱ掺杂烧蚀实验
4.2.1. 靶及黑腔设计
4.2.2. 诊断设备及方法
4.2.3. 实验结果
4.3. 实验结果与模拟分析
4.3.1. Multi-1D模拟
4.3.2. 结果分析
4.3.3. 不透明度修正
4.4. 本章小结
参考文献
第5章 辐射源特性对掺杂烧蚀的影响
5.1. 辐射源谱特性
5.1.1. 非平衡辐射源的构造
5.1.2. M带X射线总量
5.2. CH(Si)均匀混合
5.2.1. CH(Si)混合不透明度
5.2.2. CH(Si)混合状态方程
5.3. 辐射源特性对掺杂烧蚀的影响
5.3.1. 不同M带份额fm下的烧蚀模拟
5.3.2. 不同辐射源温度下的烧蚀模拟
5.3.3. 不同掺杂份额下的烧蚀模拟
5.3.4. 结论
5.4. 本章小结
参考文献
第6章 总结与展望
6.1. 工作总结
6.2. 展望
致谢
附录
本文编号:3832885
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