原位反应生产新型细化剂AlTiBRE的净化处理关键技术研究

发布时间：2022-11-07 17:44

　　本文针对实际生产过程中原位反应制备新型AlTiBRE中间合金细化剂中细化相的分布不容易均匀,以及细化剂本身的冶金缺陷较多、洁净度不高,易导致细化处理时铝熔体的二次污染等而直接影响到该细化剂的生产应用等难题,在前期研究的基础上,通过比较试验及现代分析测试技术（OM、SEM、EDAX、XRD等）设计出适用于原位反应制备新型AlTiBRE中间合金细化剂的高效排杂净化的关键工艺技术,并且应用于该细化剂的实际生产中,进行了纯净化处理试验,制备出一种质量较优异的新型A15TilB0.5RE细化剂产品,并将其应用于铝合金材料的晶粒细化处理,进一步探讨了其细化作用和效果。获得的主要研究结果如下：（1）设计了四种排杂净化熔剂（代号CJ1、CJ2、CJ5、CJ6）对原位反应制备新型A15Ti1B0.5RE中间合金细化剂进行了净化处理,表明排杂熔剂CJ5的组元配比恰当,其排杂率可达82.8%。CJ5熔剂的处理效果好的主要原因在于：熔点明显低于常规熔剂,且比其它3种排杂熔剂也低,仅为601.0℃。因此在相同的处理温度下,过热度更大且粘度较小,流动性较好,有利于夹杂向熔剂中扩散迁移,排杂动力学条件得到明显改善,... 

【文章页数】：75 页

【学位级别】：硕士

【部分图文】：

图２－１工厂生产使用的反箭炉和巧巧电阻炉??（ａ）反射炉（ｂ）谢巧电阻炉??

图２－３工厂生产的铸模生产线及生产出的细化剂产品??（ａ）工厂铸模生产线（ｂ）生产出的细化剂产品??２．?２成分分析及物相确定??

图３－１不同烙剂净化处理的Ａ１５ＴＨＢ０．５ＲＥ中间合金金相组织形貌（ＯＭ，ｘ；ｌ〇〇，抛光态）??脚未净化，明场作）未净化，暗场似ＣＪ１烙剂处理，明场（ｄ）ＣＪｌ烙剂处理，暗场（ｅ）ＣＪ２烙剂，明场??（ｆ）Ｃ口烙剂处理，暗场（ｇ）ＣＪ５烧剂，明场（ｈ）ＣＪ５烙剂，暗场ｙ）ＣＪ６烙剂，明场化ＣＪ６烙剂，暗场??由图３－１可见，未净化处理时夹杂呈粗大块状，且聚集成团，在暗场条件下可观察到??，

【参考文献】：
期刊论文
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硕士论文
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本文编号：3704122