有机高分子文物保护材料稳定性研究

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有机高分子文物保护材料稳定性研究

     论文目录

摘要第1-7页

Abstract第7-9页

第一章 绪论第9-26页

 1．1 文物所面临的危机第9-10页

 1．2 有机高分子材料在文物中的应用及要求第10-15页

  1．2．1 有机高分子材料在文物中的应用第10-12页

   1．2．1．1 文物粘合剂第10页

   1．2．1．2 文物加固剂第10-11页

   1．2．1．3 文物表面保护剂(封护剂)第11-12页

  1．2．2 对文物保护用有机高分子材料的要求第12-15页

   1．2．2．1 对各种封护材料的要求第13-14页

   1．2．2．2 对加固剂的要求第14页

   1．2．2．3 对粘接材料的要求第14-15页

 1．3 高分子材料在文物应用中存在的问题第15-17页

  1．3．1 环氧树脂第15-16页

  1．3．2 丙烯酸树脂第16页

  1．3．3 有机硅材料第16-17页

  1．3．4 聚氨酯材料第17页

 1．4 对高分子材料稳定性研究现状第17-19页

 1．5 立题思路及意义第19-20页

 参考文献第20-26页

第二章 样品的制备、方法及仪器第26-34页

 2．1 实验材料及试剂第26-29页

  2．1．1 Primal AC 33第26页

  2．1．2 B72第26页

  2．1．3 丙烯酸清漆第26页

  2．1．4 TDI型聚氨酯第26-27页

  2．1．5 HDI型聚氨酯第27页

  2．1．6 MDI型聚氨酯第27-28页

  2．1．7 环氧树脂第28页

  2．1．8 有机硅第28-29页

  2．1．9 试剂第29页

 2．2 样品制备第29-30页

  2．2．1 制板第29页

  2．2．2 制膜第29-30页

   2．2．2．1 溶液的制备第29-30页

   2．2．2．2 涂膜第30页

 2．3 实验方法第30-32页

  2．3．1 光老化第30-31页

   2．3．1．1 光源第30-31页

   2．3．1．2 老化方法第31页

  2．3．2 热老化第31-32页

   2．3．2．1 热源第31-32页

   2．3．2．2 老化方法第32页

 2．4 实验仪器及测试条件第32-33页

  2．4．1 实验仪器第32页

  2．4．2 测试条件第32-33页

   2．4．2．1 漫反射光谱法的测试条件第32页

   2．4．2．2 傅立叶变换-衰减全反射法的测试条件第32-33页

 参考文献第33-34页

第三章 对高分子材料降解的跟踪监测及表征第34-41页

 3．1 漫反射光谱法第34-38页

  3．1．1 漫反射光谱的原理第34-35页

  3．1．2 材料的光稳定性第35-36页

   3．1．2．1 外观评价第35页

   3．1．2．2 色差值的变化第35-36页

   3．1．2．3 反射系数的变化第36页

  3．1．3 材料的热稳定性第36-38页

   3．1．3．1 外观评价第36-37页

   3．1．3．2 色差值的变化第37页

   3．1．3．3 反射系数的变化第37-38页

 3．2 接触角第38页

 3．3 涂膜硬度第38-39页

 3．4 粘度第39页

 3．5 小结第39-40页

 参考文献第40-41页

第四章 降解机理的研究第41-56页

 4．1 光降解机理第41-49页

  4．1．1 丙烯酸类第41-43页

  4．1．2 聚氨酯类第43-48页

   4．1．2．1 TDI型聚氨酯第43-45页

   4．1．2．2 MDI型聚氨酯第45-46页

   4．1．2．3 HDI型聚氨酯第46-48页

  4．1．3 有机硅第48页

  4．1．4 环氧树脂第48-49页

 4．2 热降解机理第49-53页

  4．2．1 Primal AC33第49-50页

  4．2．2 B72和丙烯酸清漆第50-51页

  4．2．3 聚氨酯第51-52页

  4．2．4 有机硅第52-53页

 4．3 小结第53-54页

 参考文献第54-56页

结论第56-57页

在己完成工作的基础上，发表和待发表的文章第57-58页

致谢第58-59页

附录第59-90页

论文编号BS1043319，这篇论文共90页
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