桔霉素上转换荧光传感检测方法的研究

发布时间：2017-10-22 05:39

  本文关键词：桔霉素上转换荧光传感检测方法的研究

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【摘要】：桔霉素(Citrinin, CIT)是真菌产生的次生代谢产物,常常污染粮食谷物、饲料等,有致癌、致畸、致突变的潜在危害。目前,检测桔霉素常用的方法有高效液相色谱法、毛细管电泳法、液相色谱质谱联用法等。这些方法虽然灵敏度高,但往往需要复杂的前处理过程和昂贵的大型仪器。因此建立一种简单、灵敏、低成本的检测方法显得尤为重要。本论文用水热法合成六方相上转换荧光纳米材料,并用Stober法在其表面包覆Si02作载体,以桔霉素的结构类似物3,5-二羟基-2-萘酸(DHNA)为模板分子,3-氨基丙基三乙氧基硅烷作为功能单体,四乙氧基硅烷为交联剂,将表面分子印迹与溶胶-凝胶技术相结合,合成了对桔霉素有较高选择性的分子印迹材料。实验优化了模板、单体和交联剂的比例、载体用量、反应温度和时间等条件,并对合成的聚合物材料进行吸附平衡、吸附动力学、傅里叶红外光谱等表征。结果表明：在最优条件下合成的荧光分子印迹聚合物,随桔霉素浓度的增大聚合物的猝灭程度增大。在桔霉素浓度为0.2-1.0 mg L-1范围内,荧光印迹聚合物的猝灭程度与浓度呈现出好的线性关系,桔霉素的检出限为0.13 mg L-1。为了验证实验所建立方法的实用性,本文对红曲米、玉米和米醋中桔霉素进行了加标回收实验。红曲米的添加量为2.0、4.0、8.0 mg kg-1,玉米添加量为0.5、1.0、2.0 mg kg-1,米醋的添加量为0.5、1.0、2.0 mg L-1,三种样品的添加回收率分别为82.0%-89.3%(RSD5.0%)、90.0%-98.0%(RSD4.3%)、84.0%-94.5%(RSD2.8%),说明本文所建立的检测方法的可行性。此外,为了进一步验证本实验所建立的分子印迹荧光检测法的有效性,采用高效液相色谱法,对上述三种样品进行加标回收实验,红曲米的添加量为2.0、4.0、8.0 mg kg-1,玉米添加量为0.5、1.0、2.0 mg kg-1,米醋添加量为0.5、1.0、2.0 mg L-1,检测回收率分别为69.0%-75.3%(RSD8.6%)、 72.0%-83.0%(RSD6.7%)、82.0%-85.5%(RSD6.2%)。
【关键词】：桔霉素 上转换荧光纳米材料 分子印迹 检测
【学位授予单位】：天津科技大学
【学位级别】：硕士
【学位授予年份】：2015
【分类号】：O657.3
【目录】：

• 摘要4-5
• ABSTRACT5-9
• 1 前言9-23
• 1.1 真菌毒素简介9
• 1.2 桔霉素简介9-12
• 1.2.1 基本理化性质9
• 1.2.2 毒性作用及其限量标准9-10
• 1.2.3 桔霉素常用的检测方法10-12
• 1.3 上转换荧光纳米材料12-15
• 1.3.1 上转换荧光纳米材料概述12-13
• 1.3.2 UCNPs的发光机理13-14
• 1.3.3 UCNPs的制备方法14-15
• 1.4 核壳结构15-16
• 1.4.1 核壳结构的基本性质15-16
• 1.4.2 二氧化硅为外壳的核壳结构制备方法16
• 1.5 分子印迹技术16-21
• 1.5.1 分子印迹技术的发展16-17
• 1.5.2 分子印迹技术原理17
• 1.5.3 分子印迹聚合物制备过程17-18
• 1.5.4 分子印迹聚合物制备方法18-20
• 1.5.5 分子印迹技术的应用20-21
• 1.6 研究目的及意义21
• 1.7 本课题的主要研究内容21-23
• 2 材料与方法23-30
• 2.1 实验材料和仪器23-24
• 2.1.1 实验材料23
• 2.1.2 主要仪器设备23-24
• 2.1.3 主要溶剂配制24
• 2.2 实验方法24-30
• 2.2.1 UCNPs的合成与表征24-25
• 2.2.2 UCNPs@SiO_2的合成与表征25-26
• 2.2.3 DHNA分子印迹聚合物的制备与表征26-27
• 2.2.4 吸附介质的选择27
• 2.2.5 荧光分子印迹聚合物对DHNA吸附平衡结合实验27
• 2.2.6 荧光分子印迹聚合物对DHNA吸附动力学实验27-28
• 2.2.7 吸附选择性实验28
• 2.2.8 竞争性实验28
• 2.2.9 实际样品的测定28-30
• 3 结果与讨论30-57
• 3.1 UCNPs合成条件的优化30-31
• 3.1.1 稀土离子浓度30
• 3.1.2 稀土离子与氟离子的比例30-31
• 3.1.3 反应时间31
• 3.2 UCNPs的表征31-34
• 3.2.1 荧光光谱表征32-33
• 3.2.2 傅里叶红外光谱表征33
• 3.2.3 X射线衍射表征33-34
• 3.2.4 扫描电镜表征34
• 3.3 UCNPs@SiO_2合成条件的优化34-36
• 3.3.1 反应温度35
• 3.3.2 反应时间35-36
• 3.4 UCNPs@SiO_2的表征36-39
• 3.4.1 荧光光谱表征36-37
• 3.4.2 傅里叶红外光谱表征37
• 3.4.3 X-射线衍射表征37-38
• 3.4.4 扫描电镜表征38
• 3.4.5 透射电镜表征38-39
• 3.5 荧光分子印迹聚合物合成原理39-40
• 3.6 荧光分子印迹聚合物合成条件的优化40-44
• 3.6.1 反应溶剂40-41
• 3.6.2 UCNPs@SiO_2用量41-42
• 3.6.3 模板、单体和交联剂的配比42
• 3.6.4 反应温度42-43
• 3.6.5 反应时间43
• 3.6.6 催化剂43-44
• 3.6.7 模板分子的去除44
• 3.7 荧光分子印迹聚合物的表征44-46
• 3.7.1 傅里叶红外光谱表征45
• 3.7.2 扫描电镜表征45-46
• 3.7.3 透射电镜表征46
• 3.8 荧光分子印迹聚合物吸附实验46-51
• 3.8.1 吸附介质的选择46-47
• 3.8.2 吸附平衡试验47-48
• 3.8.3 吸附动力学实验48
• 3.8.4 荧光猝灭机理48-49
• 3.8.5 吸附选择性实验49-51
• 3.9 线性范围及检出限51-52
• 3.10 实际样品的测定52-57
• 3.10.1 分子印迹荧光检测法测定样品52-53
• 3.10.2 高效液相色谱法测定样品53-56
• 3.10.3 两种分析检测方法的比较56-57
• 4 结论57-59
• 5 展望59-60
• 6 参考文献60-66
• 7 攻读硕士学位期间发表论文情况66-67
• 8 致谢67

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