NOM研究组2010级博士研究生顺利通过学位论文答辩

  本文关键词：基于变量分离理论的光刻成像快速计算方法研究，由笔耕文化传播整理发布。

2015年5月16日上午9点，NOM组2010级博士研究生董正琼、周新江、朱金龙三位同学在武汉国家数字装备重点实验室机械先进制造大楼C303会议室进行了博士学位论文答辩。答辩委员会主席为华中科技大学机械学院康宜华教授、答辩委员包括华中科技大学机械学院史铁林教授、熊蔡华教授、汤 自荣教授、吴志刚教授和刘世元教授，答辩秘书为江浩副教授。

董正琼同学的学位论文题目为“光学散射测量中的测量条件配置优化方法研究”，该论文研究了光学散射测量的若干基础理论问题，对典型纳米结构的测量过程展开灵敏度特性分析，并根据不同的纳米结构测量需求分别提出了基于局部灵敏度法、基于全局灵敏度法、以及基于线性相关分析法这三种测量条件配置优化方法，为解决测量条件配置的优化问题提供更为有效的新途径，为批量化纳米制造中纳米结构几何参数的快速、精确测量提供理论指导，并促进光学散射测量技术在纳米制造领域中的应用。

周新江同学的学位论文题目为“基于变量分离理论的光刻成像快速计算方法研究”，该论文以浸没式光刻机成像系统为研究对象，使成像模型可以快速计算工艺参数改变后对成像的影响，进而可以满足光学临近校正技术中掩模逆向优化计算速度的要求。标量成像模型主要研究处理包含离焦、波像差、曝光剂量等工艺参数下光刻成像快速计算；矢量成像模型主要研究基于部分相干光源多入射角参数下厚掩模近场快速计算模型、基于多入射角参数下厚掩模模型的矢量成像建模及其快速算法、基于矢量成像模型的光刻胶多层薄膜介质成像模型及其快速算法等研究工作。为深入认识和理解光刻工艺过程提供理论基础，，为光学临近效应校正技术的应用作出指导，为进一步提高光学光刻分辨力提供新方法。

朱金龙同学的学位论文题目为“纳米结构光学散射测量中的形貌重构方法研究”，该论文以基于光学散射仪的纳米结构测量逆问题为出发点，提出纳米结构光学散射测量中的形貌重构方法研究，具体的研究内容包括：提出了一种基于支持向量机的纳米结构几何形貌识别方法；分别提出了基于数据约化思想和基于鲁棒统计原理的非线性优化算法与库匹配方法，在业界首次突破了正态统计假设框架，实现了更高准确度的典型纳米结构几何形貌参数提取结果；在传统的基于正态统计与协方差矩阵有关理论的测量参数不确定度估计方法基础上，利用所提出的数据约化方法对其进行了修正，获得了更为鲁棒可靠的不确定度估计结果。以上研究内容为批量化纳米制造中纳米结构几何参数的精确鲁棒提取提供了理论指导，并进一步促进了光学散射测量方法在纳米制造表征中的运用。

三位同学通过PPT的方式依次向答辩委员会陈述了研究内容，并对答辩委员会提出的各种问题一一进行了解答。随后答辩委员会通过内部会议对答辩结果进行了讨论，一致认为三位同学都已掌握本学科坚实宽广的基础理论和系统深入的专门知识，具有独立从事科学研究工作的能力，且在答辩中陈述清楚，回答问题正确，一致通过了其工学博士学位论文答辩，建议分别授予董正琼、周新江、朱金龙三位同学工学博士学位。

在此祝贺三位同学圆满完成博士学业，衷心希望他们毕业以后工作顺利、事业有成。

  本文关键词：基于变量分离理论的光刻成像快速计算方法研究，由笔耕文化传播整理发布。