激光反射镜单晶硅基板的超精密磨削工艺研究

发布时间：2021-06-14 23:38

　　激光反射镜是高能激光器的核心光学元件之一,制造激光反射镜的单晶硅基板要求具有超光滑表面和高精度面形。目前,反射镜单晶硅基板的加工工艺路线为“研磨—抛光—修形”。其中研磨加工的面形精度和表面损伤直接影响后续抛光加工的精度和效率,研磨工艺是加工高精度高质量单晶硅基板的关键工艺。针对研磨加工表面损伤和面形精度不易控制、加工效率低等问题,本文提出了基于工件旋转法磨削原理的单晶硅基板超精密磨削新工艺,代替现有的研磨工艺,并根据工件旋转法磨削工艺特点以及激光反射镜单晶硅基板的加工要求,从单晶硅基板的磨削表面层质量、磨削表面损伤控制和低损伤磨削砂轮研制、单晶硅基板磨削面形控制方法以及单晶硅基板高精度低损伤超精密磨削工艺等方面进行了深入研究,对于实现高精度高质量单晶硅基板的超精密磨削具有重要的指导意义。本文的主要研究内容和结论如下:（1）为了控制超精密磨削单晶硅基板的表面层质量,建立了单晶硅延性域磨削的磨粒切削深度模型,并利用模型对单晶硅磨削表面粗糙度和亚表面损伤深度进行了预测,还分析了在磨粒切削深度不变的条件下磨削速度对单晶硅表面层质量的影响。首先,考虑单晶硅磨削过程中材料有效去除的磨粒最小切削深度... 

【文章来源】：大连理工大学辽宁省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校

【文章页数】：139 页

【学位级别】：博士

【部分图文】：

图１．１美军代表性的高能激光武器系统（ａ）陆基（ｂ）海基（ｃ）空基??

图１．２光学谐振腔Ｍ?（ａ）简易光学谐振腔（ｂ）非稳谐振腔??

图１．３粒子数反转状态??．．ｖ

【参考文献】：
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本文编号：3230449