高数值孔径投影光刻物镜的光学设计

发布时间：2017-07-08 11:26

  本文关键词：高数值孔径投影光刻物镜的光学设计

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【摘要】：针对45nm节点投影光刻物镜的应用,开展了工作波长为193nm的深紫外浸没式高数值孔径(NA)投影光刻物镜的研究和研制。设计了数值孔径(NA)为1.30的离轴三反射镜投影光刻物镜和NA为1.35的同轴两反射镜投影光刻物镜,并对两个设计方案的优劣进行对比分析,选择了同轴式结构作为最终的设计方案。分析了系统在不同NA情况下可变光阑与其远心度之间的关系,提出了用双可变曲面光阑的设计方案来优化系统的远心度。实验表明,应用本文设计方案,光刻物镜的波像差小于1nm,畸变小于1nm;新型的可变光阑使系统NA在0.85~1.35变化时的最大远心度由5.83~17.57mrad降低至0.26~3.21mrad。本文提出的设计方案为45nm节点高数值孔径投影光刻物镜的研制提供了有益的理论依据和指导。
【作者单位】： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室;中国科学院大学;
【关键词】： 光学设计 高数值孔径(NA)投影光刻物镜 深紫外投影光刻物镜 远心度 曲面光阑
【基金】：国家科技重大专项基金资助项目(No.2012ZX02701001-007)
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： 2.中国科学院大学,北京100049)1引言大规模集成电路制造的核心设备是光刻机。我国的光刻技术研究起步较晚,且进展较为缓慢,水平与国外的差距十分明显。为了具有自主研发高端集成电路的能力,我国开始了极紫外(EUV)光刻技术和深紫外193nm光刻技术[1-4]的研究。目前,国际上最先进

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