不同剂型的光保护药物对UVB光损伤的干预作用及其对相关调控分子影响的实验研究

发布时间：2021-05-19 09:51

　　研究背景: 日光中的紫外线（UV）,主要为长波紫外线（UVA）和中波紫外线（UVB）是导致皮肤日晒伤、光老化及皮肤癌的重要因素。在相同剂量下,UVB的光损伤作用比UVA约大800-1000倍。UVB辐射可导致自由基及活性氧的形成,引起细胞因子产生于分泌,局部及系统免疫抑制,细胞DNA损伤及突变频率增加,甚至导致皮肤光老化及皮肤癌肿。皮肤的角质形成细胞是紫外线照射的重要靶位,表皮是抵抗紫外线作用的第一道防线。UVB辐射可引起表皮细胞DNA损伤,产生光损伤产物,主要为6-4光产物（（6-4）PPs）和环丁烷嘧啶二聚体（CPDs）,随后光照细胞对光损伤产物主要通过核苷酸切除修复（NER）进行切除修复。在切除修复过程中,涉及到细胞周期阻滞延长,30多种基因的参与,其中p53、PCNA、RPA等调控基因表达对上述变化至关重要。西药中维生素E和传统中药黄芩、川芎及绿茶提取物茶多酚（tea polyphenols,TP）中的主要活性成分没食子儿茶素没食子酸脂（epigallocatechingallate,EGCG）等有着广泛的生物学效应,如吸收紫外线、抗过氧化及抗肿瘤等作用,但对UVB辐射后... 

【文章来源】：南京医科大学江苏省

【文章页数】：118 页

【学位级别】：硕士

【文章目录】：
全文技术流程图
中英文对照及缩略语
中文摘要(关键词)
英文摘要(关键词)
全文引言
论文正文：不同剂型的光保护药物对UVB光损伤的干预作用及其对相关调控分子影响的实验研究
    第一部分 纳米制剂药物的制备与体外透皮性能的研究
    第二部分 VitE SME对UVB光损伤保护作用的研究
    第三部分 光保护药物对UVB辐射后细胞光产物产生和清除速率影响的研究
    第四部分 光保护药物对UVB辐射后光产物清除相关调控分子影响的研究
        第一节 光保护药物对光产物清除相关调控基因mRNA表达影响的研究
        第二节 光保护药物对光产物清除相关调控基因蛋白表达影响的研究
全文小结
附综述和已发表文章
致谢
论文独创性声明
论文使用授权声明


【参考文献】：
期刊论文
[1]川芎嗪对人小细胞肺癌H446细胞的增殖抑制作用[J]. 张会军,阎蕴力,张朱欣,李建科,刘金锋,王运仓.  肿瘤防治研究. 2003(06)
[2]环孢菌素A外用实验研究[J]. 郑锐,卢玉娟,杜旭,宋永熙,单俊杰.  哈尔滨医科大学学报. 2000(02)
[3]磷酸川芎嗪的体外透皮吸收[J]. 王晖,高莉莉,许卫铭,刘刚.  中草药. 2000(02)
[4]黄芩甙的抗氧化作用[J]. 张永钦,周井炎,徐辉碧.  华中理工大学学报. 1999(04)
[5]药物抗氧化作用对DNA发光动力学行为的影响[J]. 张健,曹恩华,马文建,秦静芬,张仲纶,郑雁珍.  感光科学与光化学. 1997(02)
[6]中药黄芩具有提取天然广谱防晒剂的价值[J]. 郭玲.  海南医学院学报. 1995(Z1)



本文编号：3195571