不同设计和饰/釉瓷烧结对氧化锆种植全瓷冠内部和边缘适合性的影响

发布时间：2021-03-28 14:56

　　目的研究氧化锆不同设计和饰/釉瓷烧结对种植全瓷冠内部和边缘适合性的影响。方法采用Cercon计算机辅助设计及制作（CAD/CAM）系统制作3组黏结固位氧化锆种植全瓷冠,每组8颗（n=8）。A组（常规氧化锆烤瓷全冠组）:常规边缘氧化锆基底冠+饰瓷,B组（360°氧化锆颈环烤瓷全冠组）:360°氧化锆颈环冠边缘基底冠+饰瓷,C组（全解剖式氧化锆全冠组）:解剖形态氧化锆全冠+釉瓷。饰/釉瓷烧结前和烧结后采用硅橡胶分别复制氧化锆基底冠、氧化锆全瓷冠在基台就位后的内部及边缘间隙,Micro-CT扫描硅橡胶获得内部及边缘间隙图像,测量基底冠、氧化锆全瓷冠边缘垂直间隙（MG）、冠边缘水平间隙（HMD）、肩台区间隙（CA）、轴面中点间隙（AW）、轴面和面交界处间隙（AOT）。采用SPSS 17.0软件对测量结果进行统计学分析。结果不论饰/釉瓷烧结前还是烧结后,A组HMD均大于B组和C组（P<0.05）,B、C组HMD差异无统计学意义（P>0.05）,A、B、C三组间MG、CA、AW、AOT均无统计学差异（P>0.05）。饰/釉瓷烧结后,A组MG较烧结前明显减小（P<0.05）,... 

【文章来源】：华西口腔医学杂志. 2016,34(01)北大核心CSCD

【文章页数】：5 页

【文章目录】：
1 材料和方法
    1.1 主要实验材料和设备
    1.2 实验方法
        1.2.1氧化锆基底冠和解剖式全冠的制作
        1.2.2饰/釉瓷堆塑、烧结
        1.2.3氧化锆基底冠、全瓷冠的内部和边缘间隙复制及Micro-CT扫描
        1.2.4数据测量
    1.3 统计分析
2 结果
3 讨论
    3.1 氧化锆不同设计对种植全瓷冠适合性的影响
    3.2 饰/釉瓷烧结对不同设计种植全瓷冠适合性的影响



本文编号：3105756