氦气源低温大气压等离子体射流处理对离体牙本质黏接强度的影响

发布时间：2021-06-23 22:11

　　目的研究氦气源低温大气压等离子体（non-thermal atmospheric pressure plasma,NTAPP）射流处理对牙本质接触角及黏接强度的影响。方法将10颗离体牙制备成30片1.5 mm厚的牙本质片,打磨清洗后NTAPP射流分别处理0（对照组）,5,10,15,20 s,测量牙本质接触角。30颗离体牙去除牙合面牙釉质,暴露的牙本质打磨清洗后酸蚀15 s,NTAPP射流分别处理0（对照组）,5,10,15,20 s,常规黏接进行微拉伸测试。对各处理组接触角及黏接强度进行统计分析。结果对照组牙本质接触角均值为75.57°,经NTAPP处理后各组接触角均显著降低（P <0.05）,各NTAPP处理组间差异无统计学意义（P>0.05）。NTAPP射流处理0,5,10,15,20 s黏接强度分别为（36.38±3.28） MPa、（39.82±3.57） MPa、（41.85±1.88） MPa、（45.79±4.2） MPa、（33.51±2.59） MPa;与NTAPP处理0 s相比,处理10和15 s即刻牙本质黏接强度显著增加（P <0.05）。结论... 

【文章来源】：山西医科大学学报. 2020,51(06)

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【部分图文】：

氦气源NTAPP实验装置及试件处理示意图

各组牙本质接触角见图2，变化规律见图3。正常牙本质接触角为75.57°±1.45°，经NTAPP处理后各组接触角均显著小于对照组(P<0.05)，处理20s时接触角最小为58.41°±1.15°;随着处理时间延长，各组间接触角差异无统计学意义(P>0.05)。图3 NTAPP处理不同时间牙本质接触角比较

NTAPP处理不同时间牙本质接触角比较


本文编号：3245748