论集成电路布图设计知识产权的刑法保护

发布时间：2024-02-27 03:04

　　集成电路布图设计(以下简称布图设计)是当今世界最为活跃也最为需要保护的前沿性知识产权,无论是从经济角度还是其他战略角度,都是无可替代的。我国在保护布图设计的过程中虽然吸纳了国外的优秀立法经验,给予了布图设计行政立法保护,但是忽视了布图设计的刑法保护。由于布图设计蕴含巨大的经济价值,专利、著作权等又不能提供有效保护,从长远发展战略来看对侵权行为有必要予以入罪设置。因此,布图设计理应和专利、著作权一样完全有必要给予刑法保护。

【文章页数】：4 页

【文章目录】：
一、问题的提出
二、集成电路布图设计侵权行为入刑的应然性与可然性
    (一) 布图设计入刑的应然性
        1. 布图设计具有巨大的经济价值
        2. 专利法、著作权法等知识产权法不能提供有效保护
        3. 侵犯集成电路布图案件发展趋势呼唤刑事保护
    (二) 布图设计入刑的可然性
        1. 法律与政策基础
        2. 发达国家的启示
三、集成电路布图设计侵权行为的入罪设置
    (一) 明确布图设计的刑法救济模式
    (二) 布图设计构成要件
    (三) 布图设计的罪名、罪状
    (四) 布图设计法定刑
四、结语



本文编号：3912278