辉光功率对柔性衬底ZnO:Al薄膜性能的影响

发布时间：2017-11-02 00:15

  本文关键词：辉光功率对柔性衬底ZnO:Al薄膜性能的影响

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【摘要】：目前,磁控溅射制备Zn O:Al薄膜时的溅射压强较低,若氩气流量不稳或腔室排气口处气流扰动会对溅射压强产生较大影响,影响成膜质量。为提高溅射薄膜质量,采用直流磁控溅射技术,在较高溅射压强下,以不同辉光功率在柔性衬底聚酰亚胺上制备了Zn O:Al薄膜。采用紫外可见分光光度计、四探针测试仪、X射线衍射仪及扫描电镜测试薄膜性能,考察了辉光功率对薄膜光学特性、电学特性、薄膜结构和表面形貌的影响。结果表明:制备的薄膜均为六方纤锌矿结构,且有明显的c轴择优取向;随着辉光功率的增大,方块电阻先减小后增大,辉光功率为50 W时最小,为15.6Ω,晶粒尺寸先增大后减小;在辉光功率为50 W时,600~800 nm波长范围内薄膜的相对透射率达到最大值96%。
【作者单位】： 暨南大学信息科学技术学院;
【关键词】： 直流磁控溅射 ZnO Al薄膜 柔性衬底 辉光功率 方块电阻 相对透射率
【基金】：广东省科技计划(2014A010106014)项目 广东省教育部产学研结合(2012B091000111)项目 中央高校基本科研业务费专项基金(21612412)资助
【分类号】：TB383.2
【正文快照】： 0前言Zn O:Al(ZAO)薄膜具有优异的光电特性和化学稳定性,广泛应用于太阳能电池、液晶显示器、热反射镜领域。ZAO薄膜还具有材料来源丰富、制造成本低、无毒、无污染等优点[1,2],被认为是制备透明导电氧化物(TCO)薄膜的最佳薄膜材料[3]。随着近年来半导体器件向小型化和轻量化，

本文编号：1129148