包含等离子体辅助沉积参数和离子刻蚀作用过程的结构区域相图

发布时间：2017-11-21 08:26

  本文关键词：包含等离子体辅助沉积参数和离子刻蚀作用过程的结构区域相图

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【摘要】：文中提出一种扩展的薄膜微观结构的区域相图,可以用其来表征过滤阴极弧以及高功率脉冲磁控溅射镀膜过程中含有大量离子流的动态沉积过程。其坐标轴包括广义同系温度,标量化动能以及可以表征离子刻蚀作用的净膜厚。需要强调的是,由于影响薄膜生长的实际参数要远超相图中有限的坐标轴数,因此该结构区域相图展示的生长条件与薄膜结构之间的关系是近似和简化过的。
【作者单位】： 加利福尼亚大学劳伦斯伯克利国家实验室;
【基金】：美国能源部项目(DE-AC02-05CH11231)
【分类号】：TB383.2
【正文快照】： A Structure Zone Diagram Including Plasma-based Deposition and Ion EtchingANDERS André(Lawrence Berkeley National Laboratory,University of California,California 94720,United States)引文格式:AndréAnders.包含等离子体辅助沉积参数和离子刻蚀作用过程的结构区

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1 王玉林;任玉敏;张雪仪;邹本三;;高聚物结晶形态精细结构的电镜观察[J];电子显微学报;1988年03期

2 ;[J];;年期

，

本文编号：1210303