不同温度对原子层沉积掺铝氧化锌薄膜性能的影响

发布时间：2018-03-31 02:07

  本文选题：温度　切入点：原子层沉积　出处：《真空科学与技术学报》2017年12期

【摘要】：采用热原子层沉积(ALD)方法,在固定氧化锌与氧化铝沉积比例的情况下,研究了不同温度下在玻璃衬底上沉积的掺铝氧化锌薄膜性能的变化,特别是"ALD窗口"温度的影响。通过计算薄膜沉积速率,得到了薄膜沉积的"ALD窗口"温度范围为225~275℃,相应的沉积速率为0.214 nm/cycle。分析样品的表面形貌后发现,虽然反应的温度有所不同,但薄膜的微观结构均为密集堆积的纺缍体,它们的尺寸受到温度、晶体结构等因素的影响。结构分析表明,在"ALD窗口"温度范围内,所有沉积得到的样品均为(100)择优取向,并且结晶质量、晶粒尺寸以及(002)峰的相对强度均随着温度升高而增大。薄膜的光学透过率以及光学带隙没有随温度变化而表现出明显的变化,分别在80%(350~770 nm)和3.90 e V左右。薄膜的电导率和光学质量在"ALD窗口"内随温度增加而增长,直到300℃时达到最佳。
[Abstract]:The properties of aluminum-doped zinc oxide films deposited on glass substrates at different temperatures were studied by means of thermal atomic layer deposition (ALD) method under the condition of fixed ratio of zinc oxide to alumina deposition. Especially the influence of ALD window temperature. By calculating the deposition rate of thin film, the temperature range of "ALD window" for thin film deposition is 225 ~ 275 鈩，

本文编号：1688660