纳米晶NiO薄膜的电化学沉积及其光学性能研究

发布时间：2018-04-06 03:02

  本文选题：NiO　切入点：电化学沉积　出处：《功能材料》2017年04期

【摘要】：以Ni(NO_3)_2水溶液为沉积液,采用阴极电化学沉积法在FTO导电玻璃上制备了纳米晶NiO薄膜。通过X射线衍射、紫外-可见光透过谱等手段表征薄膜结晶性、表面微观形貌以及光学特性。结果表明,沉积电位以及沉积时间均对电化学沉积法薄膜沉积过程存在重要影响。在优化条件下(沉积电压为-0.9V、沉积时间为2~5min),所获薄膜致密均一,无裂纹,对可见光的透过率高达85%。
[Abstract]:Nanocrystalline NiO thin films were prepared on FTO conductive glass by cathodic electrochemical deposition with Ni(NO_3)_2 aqueous solution as deposition solution.The crystallinity, surface morphology and optical properties of the films were characterized by X-ray diffraction and UV-Vis spectroscopy.The results show that the deposition potential and deposition time have an important effect on the deposition process of the films by electrochemical deposition.Under the optimized conditions (the deposition voltage is -0.9 V, the deposition time is 2 ~ 5 min), the film is compact and uniform, without cracks, and the transmittance of visible light is as high as 85%.
【作者单位】： 东莞市凯昶德电子科技股份有限公司;武汉理工大学材料学院;武汉理工大学汽车工程学院;
【基金】：中国博士后科学基金资助项目(2014M550415)
【分类号】：O484

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本文编号：1717656