衬底偏压对VC纳米薄膜摩擦学性能的影响

发布时间：2018-06-23 16:51

  本文选题：衬底偏压 + 薄膜　； 参考：《吉林大学学报(理学版)》2016年04期

【摘要】：采用磁控溅射技术,通过改变衬底偏压在室温下制备系列VC薄膜,并考察衬底偏压对VC薄膜晶体结构、硬度及摩擦磨损性能的影响,建立相互间的内在联系.结果表明,随着衬底偏压的增高,薄膜的晶粒逐渐细化,薄膜硬度逐渐增大,耐磨损性能得到提高,摩擦系数变化较小.
[Abstract]:A series of VC thin films were prepared by magnetron sputtering at room temperature by changing the substrate bias voltage. The effects of substrate bias on the crystal structure, hardness and friction and wear properties of VC thin films were investigated. The results show that with the increase of substrate bias, the grain size of the films is gradually refined, the hardness of the films increases, the wear resistance is improved, and the friction coefficient changes slightly.
【作者单位】： 长春工程学院勘查与测绘工程学院;长春师范大学物理学院;吉林大学材料科学与工程学院;
【基金】：吉林省科技厅项目基金(批准号:2014-0101061JC)
【分类号】：TB383.2

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