原子层沉积技术在纳米光子波导中的应用

发布时间：2018-08-30 20:02

【摘要】：原子层沉积(ALD)是一种独特的薄膜沉积方法,能够实现完美的台阶复形和大面积均匀沉积,为薄膜成分和厚度提供原子级控制。本文将ALD的优点与纳米光子学联系起来,总结了ALD膜层在几种硅波导新结构中的性能优化作用,综述了近年来利用ALD制备纳米光子波导器件的一些研究成果。
[Abstract]:Atomic layer deposition (ALD) is a unique thin film deposition method, which can achieve perfect step complex and large area uniform deposition, and provide atomic level control for film composition and thickness. In this paper, the advantages of ALD are combined with nano-photonics, and the performance optimization of ALD film in several new silicon waveguide structures is summarized. Some recent research results on the fabrication of nanoscale photonic waveguide devices using ALD are summarized.
【作者单位】： 中国科学院上海光学精密机械研究所;
【分类号】：O484

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本文编号：2214139