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TiN氢催化膜磁控溅射制备与氢传输性能

发布时间:2020-05-27 17:12
【摘要】:TiN_x薄膜因其具有催化氢分子解离为氢原子的特性而受到氢气提纯领域的广泛关注。本文利用磁控溅射薄膜制备技术,系统研究了氮分压、电源功率、偏置电压及基底温度等工艺参数对TiN_x氢催化膜相和结构的影响规律,并利用电化学方法,表征了不同条件制备的TiN_x薄膜的催化析氢性能。以此为基础,优选催化活性最高的TiN_x膜,并以具有良好抗氢脆性能的V_(85)Ni_(15)铸态合金膜片为基底,制备TiN_(0.70)/V_(85)Ni_(15)/TiN_(0.70)氢分离复合膜,系统研究了其氢溶解、氢渗透等氢传输性能,并与传统Pd/V_(85)Ni_(15)/Pd氢分离复合膜的性能进行对比。TiN_x薄膜XRD掠射、EDS面扫及电化学测试分析结果表明,以氮分压10%、电源功率200W、基底负偏压200V、基底温度400℃的工艺参数磁控溅射制得的单相NaCl型TiN_(0.70)薄膜(111)晶面衍射峰最强且拥有最佳的电催化析氢性能,电化学LSV(线性伏安扫描)及EIS(电化学阻抗谱)测试分析结果均明显优于其他工艺参数下制得的TiN_x薄膜。而后对TiN_(0.70)薄膜的SEM测试结果则表明,其为纳米晶结构,是垂直于基底生长的纳米级柱状晶,表面颇为平整。通过膜厚度计算出磁控溅射的镀膜速率约为13.85nm/min。氢溶解实验结果表明,TiN_(0.70)/V_(85)Ni_(15)/TiN_(0.70)氢分离复合膜溶解氢气的过程是放热的过程,且其在473K与673K时与Sieverts定律的契合度较好。从氢扩散驱动力由化学势梯度提供的理论分析表明渗透量与PCT因子有良好的正比例线性关系,且随着温度的提高,直线斜率增加,故而氢原子在氢分离复合膜中的迁移速率也随之增大。氢渗透实验结果表明,TiN_(0.70)/V_(85)Ni_(15)/TiN_(0.70)氢分离复合膜具有良好的氢渗透性能,其在323K、373K、473K和673K时的氢渗透系数依此为4.22×10~(-9)、6.22×10~(-9)、1.16×10~(-8)和2.18×10~(-8)molH_2 m~(-1)s~(-1)Pa~(-0.5)。进一步分析TiN_(0.70)/V_(85)Ni_(15)/TiN_(0.70)氢分离复合膜的氢传输性能,计算得出其在473K时的本征扩散系数的值为6.8×10~(-10)m~2/s远高于Pd/V_(85)Ni_(15)/Pd氢分离复合膜在523K时的本征扩散系数的值3.6×10~(-10)m~2/s。同时,TiN_(0.70)/V_(85)Ni_(15)/TiN_(0.70)氢分离复合膜在673K时的本征扩散系数的值为18.2×10~(-10)m~2/s与Pd/V_(85)Ni_(15)/Pd氢分离复合膜在673K时的本征扩散系数的值18.0×10~(-10)m~2/s基本相等。进而分析得出TiN_(0.70)/V_(85)Ni_(15)/TiN_(0.70)氢分离复合膜在低于673K的温度区间内其氢扩散性能强于Pd/V_(85)Ni_(15)/Pd氢分离复合膜。
【图文】:

渗透性,金属,渗氢,金属膜


不易变形损坏;其五,金属膜分离膜与其他非金属膜片相比优势明显,可在多低成本高收益的最优之选。目前,钯(Pd选择透过性能突出被认为是制作金属膜的最了商业价值。性能不佳,,无法在高压下进行氢气的分离提低于 573K,使用超过 72h),易发生氢脆现;最后并且最重要的原因是钯为贵金属,在格昂贵,目前约 335 元/克,无法大规模投入到可在高压、低温且长时间渗氢的廉价膜材量研究发现,元素周期表中5B族元素钒、铌属的渗氢性能常用氢渗透系数Φ表示,且氢 1-1 所示。

渗透机制,膜分离,金属膜,氢分子


氢膜的基础材料,其成本是远远低于钯和钯基合金的,因此,开发氢气提纯金属膜具有良好前景。 V 基合金制成氢气提纯金属膜展现出的优秀发展前景,国内外氢气者近年来对 V 基合金进行了大量研究探索,发现在 V 中添加 Ni、 等斥氢元素可以降低氢溶解性,提高金属膜强度;同时抑制生成氢化的发生。渗透合金膜的工作机制膜提纯氢气的传输机理是氢原子的溶解-扩散机制[19]。金属膜两侧进氢分子解离扩散又能防止金属膜氧化的钯膜。氢气通过金属膜的 1-2 所示需要七个阶段。1)氢分子吸附在金属膜上游高压表面;2化作用下,氢分子解离成原子;3)氢原子溶解进入金属膜内;4)的作用下,氢原子扩散穿过金属膜;5)氢原子在金属膜下游低压)氢原子再次结合为氢分子;7)氢分子在金属膜下游低压表面解吸属膜提纯氢气的整个过程。
【学位授予单位】:哈尔滨工业大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2019
【分类号】:TB383.2

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本文编号:2683863

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