AZO透明电极及其在OLED中的应用

发布时间：2020-12-28 18:18

　　透明导电氧化物（Transparent Conducting Oxide,TCO）薄膜作为光电器件产业以及光电材料研究领域极其重要的功能材料,促进了平面显示,固态照明等产业的飞速发展。氧化铟锡（Indium tin oxide,ITO）薄膜是目前使用较为广泛的TCO材料之一,但ITO薄膜目前还存在着诸多问题,原料昂贵,有毒并且污染环境等因素是制约ITO发展的重要瓶颈。Al掺杂Zn O（Al-doped Zn O,AZO）薄膜具有可比拟ITO薄膜的光电性能,具有低廉的价格、良好的光电性能及环保无毒等优点,被认为是可以取代ITO的最具有发展潜力的TCO薄膜。论文首先介绍了AZO薄膜的研究背景,基本结构,光电性质以及应用发展现状等方面知识,作为该论文的研究基础。然后利用150℃低温条件下原子层沉积（Atomic layer deposition,ALD）的方法制备AZO透明导电薄膜,在研究中不断优化薄膜的掺杂比例和沉积参数,提高了薄膜的成膜质量并且缩短了制备时间,同时对制备的薄膜进行表面形貌和光电性能表征。以往报道的ALD法制备AZO薄膜的工作中,研究的关注点大多集中在前驱体和反应物的曝光时... 

【文章来源】：吉林大学吉林省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校

【文章页数】：52 页

【学位级别】：硕士

【文章目录】：
摘要
abstract
第一章 绪论
    1.1 透明导电氧化物薄膜
    1.2 AZO透明导电薄膜
        1.2.1 AZO薄膜结构
        1.2.2 AZO薄膜的电学特性
        1.2.3 AZO薄膜的光学特性
    1.3 AZO薄膜的制备方法
        1.3.1 有机金属化合物气相外延法
        1.3.2 喷雾热分解法
        1.3.3 磁控溅射镀膜法
        1.3.4 溶胶-凝胶法
        1.3.5 原子层沉积法
        1.3.6 脉冲激光沉积法
    1.4 AZO薄膜应用及前景
    1.5 课题研究内容与意义
第二章 薄膜制备过程、原理及表征
    2.1 原子层沉积设备
    2.2 AZO薄膜生长原理
    2.3 AZO薄膜制备过程
        2.3.1 衬底预处理
        2.3.2 AZO薄膜沉积过程
    2.4 AZO薄膜的性能表征
        2.4.1 扫描电子显微镜
        2.4.2 X射线光电子能谱
        2.4.3 霍尔测试
        2.4.4 透过率
第三章 H2O吹扫时间对薄膜结构及光电性能的影响
    3.1 AZO薄膜的制备条件
    3.2 AZO薄膜的形貌结构
    3.3 AZO薄膜的XPS分析
    3.4 AZO薄膜的电学性能
    3.5 AZO薄膜的光学性能
    3.6 AZO薄膜的性能指数
第四章 AZO透明电极在OLED上的应用
    4.1 OLED结构与原理
    4.2 OLED制备系统
    4.3 OLED测试设备
    4.4 OLED器件结构
    4.5 AZO-OLED器件性能
第五章 结论与展望
参考文献
作者简介
致谢


【参考文献】：
期刊论文
[1]透明导电膜ZnO:Al(ZAO)的组织结构与特性[J]. 孙超,陈猛,裴志亮,曹鸿涛,黄荣芳,闻立时.  材料研究学报. 2002(02)



本文编号：2944185