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离子束溅射制备Ta 2 O 3 /SiO 2 薄膜的应力特性研究

发布时间:2021-04-12 14:02
  薄膜应力存在于几乎所有的薄膜系统中。在普通光学元件镀膜中,薄膜应力会导致镜面面形发生向下凹或者向上凸的变化,应力较大时还会与基底产生失配而导致薄膜出现裂纹或者鼓泡脱落等现象。而自适应光学系统中核心器件-变形反射镜由于镜面为异型结构,镀膜后的应力不仅会导致镜面面型发生凹凸变化,还会由于背面的驱动器结构引入高阶像差,从而降低了变形镜的光束质量校正能力,影响光束传输过程中能量的分布,给系统中其他光学元件带来损伤隐患。化学氧碘激光器系统中的变形反射镜镜面镀膜采用离子束溅射镀膜技术,因为离子束溅射制备的高反膜散射低,吸收小,反射率高,而且制备温度低,适用于变形反射镜镀膜。但是离子溅射技术制备的薄膜具有很大的残余应力,而且均为同一方向的压应力,因此只能通过改进工艺来减小镀膜后的应力。本文采用离子束溅射制备了Ta2O5、SiO2的单层膜和Ta2O5/SiO2高反膜,对其应力特性进行了测试分析。在离子束溅射镀膜过程中,通过改变离子源的束压、充氧量和基板温度等工艺条件,制备... 

【文章来源】:中国科学院大学(中国科学院光电技术研究所)四川省

【文章页数】:70 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

离子束溅射制备Ta 2 O 3 /SiO 2 薄膜的应力特性研究


Spector离子束溅射镀膜机整体结构图

离子束溅射制备Ta 2 O 3 /SiO 2 薄膜的应力特性研究


包络线法的示意图

离子束溅射制备Ta 2 O 3 /SiO 2 薄膜的应力特性研究


图3-1张应力与压应力

【参考文献】:
期刊论文
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本文编号:3133426

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