SiO 2 /MgO-PTFE/PET复合膜的制备及应用性能研究
发布时间：2021-06-23 22:39
SiO2/PET复合包装膜是一种新型软包装材料,可广泛应用于食品、医药、日化等领域。但是,由于SiO2和PET属于两种不同性质的材料,其热膨胀系数等性能参数相差较大,会导致膜基结合不牢和性能下降。本文以提高SiO2/PET复合膜的结合强度为目的,设计开发了新型SiO2/MgO-PTFE/PET复合膜,通过扫描电镜、能谱仪、附着强度测试仪和透湿仪的检测与表征,研究了过渡层的制备工艺参数对其结合性能和透湿性能的影响,并优化出最佳制备参数。采用磁控溅射技术制备了SiO2/MgO-PTFE/PET复合膜,并通过附着强度测试仪、透湿仪检测了复合膜的结合性能和透湿性能。结果表明:SiO2/MgO-PTFE/PET复合膜的结合强度较SiO2/PET复合膜、SiO2/MgO/PET复合膜分别高345%、97.98%;SiO2/MgO-PTFE/PET复合膜的透湿性能较PET薄膜、SiO2
【文章来源】：湖南工业大学湖南省
【文章页数】：59 页
【学位级别】：硕士
【部分图文】：
聚偏二氯乙烯的分子结构式但是，由于聚偏二氯乙烯（PVDC）是一种高结晶度的聚合物，其热稳定性
图 1-2 聚对苯二甲酸乙二醇酯的分子结构式装膜的制备与改性技术膜的制备技术包装膜具有多种制备技术方法，当前应用挤出法、多层复合法。物理方法在 PET 中混入一些阻隔性更好的而获得综合性能较好的聚合物材料，是开发操作、成本最低的一种制备方法。共混法经 的共混。效果最好的是 PET 与 PEN 的共混容性好，能实现优良的共混效果[36]。混法制备了 PEN 含量分别为 10%、30%和 PEN 含量的增加，其热稳定性也随之提高。 与 PEN 和 PET 与 OMMT 两个体系分别进
设备清洗后的 PET 基底放入真空干燥箱中进行烘干处理PET 表面携带的水分和清洗剂对镀膜过程产生影响，T 受到二次污染。真空烘干设备采用 ZKT-6050 型真空呈仪器制造责任有限公司。设备用于制备中间过渡层 MgO-PTFE 和 SiO2薄膜。本实验高真空磁控溅射镀膜机（图 2-1 为镀膜机外观照片）技有限公司。。根据电源不同，该镀膜设备分直流磁频磁控溅射三种镀膜方式。本实验中，MgO-PTFE 中 PTFE 靶材、直流溅射 Mg 靶材反应生成 MgO 制备 SiO2靶制备 SiO2膜。 该设备的主要参数为：.0×10-5Pa，气体流量 0~300mL/min，射频功率范围为 0围为 0~2000W，中频电源功率范围为 0~2000W，靶基距为 70mm。
本文编号：3245794
【文章来源】：湖南工业大学湖南省
【文章页数】：59 页
【学位级别】：硕士
【部分图文】：
聚偏二氯乙烯的分子结构式但是，由于聚偏二氯乙烯（PVDC）是一种高结晶度的聚合物，其热稳定性
图 1-2 聚对苯二甲酸乙二醇酯的分子结构式装膜的制备与改性技术膜的制备技术包装膜具有多种制备技术方法，当前应用挤出法、多层复合法。物理方法在 PET 中混入一些阻隔性更好的而获得综合性能较好的聚合物材料，是开发操作、成本最低的一种制备方法。共混法经 的共混。效果最好的是 PET 与 PEN 的共混容性好，能实现优良的共混效果[36]。混法制备了 PEN 含量分别为 10%、30%和 PEN 含量的增加，其热稳定性也随之提高。 与 PEN 和 PET 与 OMMT 两个体系分别进
设备清洗后的 PET 基底放入真空干燥箱中进行烘干处理PET 表面携带的水分和清洗剂对镀膜过程产生影响，T 受到二次污染。真空烘干设备采用 ZKT-6050 型真空呈仪器制造责任有限公司。设备用于制备中间过渡层 MgO-PTFE 和 SiO2薄膜。本实验高真空磁控溅射镀膜机（图 2-1 为镀膜机外观照片）技有限公司。。根据电源不同，该镀膜设备分直流磁频磁控溅射三种镀膜方式。本实验中，MgO-PTFE 中 PTFE 靶材、直流溅射 Mg 靶材反应生成 MgO 制备 SiO2靶制备 SiO2膜。 该设备的主要参数为：.0×10-5Pa，气体流量 0~300mL/min，射频功率范围为 0围为 0~2000W，中频电源功率范围为 0~2000W，靶基距为 70mm。
本文编号：3245794
本文链接：https://www.wllwen.com/guanlilunwen/gongchengguanli/3245794.html
