氟钽共掺杂二氧化锡薄膜低辐射性能研究

发布时间：2021-09-16 21:42

　　二氧化锡基透明导电薄膜的低辐射性能具有重要的理论意义和实用价值,本文以喷雾热解法制备的氟掺杂二氧化锡薄膜（FTO）为研究对象,通过确定最佳溶剂对FTO薄膜的低辐射性能进行进一步优化。并采用气溶胶辅助化学气相沉积法（AACVD）制备了钽掺杂的二氧化锡薄膜（TTO）及氟钽共掺杂的二氧化锡薄膜（TFTO）,研究了氟钽共掺杂对二氧化锡基薄膜的光学、电学及辐射率的影响。采用XRD、SEM、AFM、XPS、霍尔效应仪等手段对薄膜结构、形貌、元素存在、应力状态等进行表征。主要研究结果如下:甲醇为溶剂制备的FTO薄膜具有最佳的综合光学、电学性能,品质因数可达到1.646×10^-2Ω^-1。可见光区透射比均大于75%。不同溶剂制备的FTO薄膜的霍尔迁移率主要受到电离杂质散射的影响。薄膜的光学带隙最大值为4.06 eV,其结果与载流子简并有关。钽掺杂比例为2 at.%时,TTO薄膜具有最好的光、电学性能和较低的辐射率。薄膜择优取向的趋势受到薄膜内应力的影响。一定量浓度的钽掺杂会导致薄膜内部缺乏氧O_I的增多,和充足氧O_II... 

【文章来源】：燕山大学河北省

【文章页数】：65 页

【学位级别】：硕士

【部分图文】：

SnO2的晶格结构示意图

气溶胶辅助化学气相沉积法示意图

喷雾热解过程示意图

【参考文献】：
期刊论文
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[7]催化剂水对掺杂氟的氧化锡膜性能与结构的影响(英文)[J]. 赵洪力,刘起英,杨静凯,刘艳丽,张福成.  稀有金属材料与工程. 2008(06)

博士论文
[1]低辐射薄膜的热稳定性研究[D]. 杨静凯.燕山大学 2013



本文编号：3397347