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铝、硅元素添加对TiN基薄膜组织和性能的影响

发布时间:2023-10-01 22:17
  采用物理气相沉积(PVD)法制备TiN、Ti-Al-N和Ti-Si-N 3种薄膜,研究了铝和硅元素添加对薄膜组织和性能的影响。结果表明:Ti-Al-N薄膜组织中Ti3AlN相存在择优取向,形成了粗大的柱状晶;Ti-Si-N薄膜生成了Si3N4相,组织相对细小;Ti-Al-N薄膜的膜基结合力最小,Ti-Si-N薄膜的膜基结合力最大;Ti-Al-N薄膜的表面粗糙度最小,硬度和弹性模量最大;Ti-Si-N薄膜的摩擦因数略高于Ti-Al-N薄膜的,但二者相差很小,这应与Ti-Si-N薄膜组织较细小且形成的Si3N4相具有一定的自润滑性能有关。

【文章页数】:5 页

【文章目录】:
0 引言
1 试样制备与试验方法
2 试验结果与讨论
    2.1 物相组成
    2.2 表面粗糙度
    2.3 膜基结合力
    2.4 硬度与弹性模量
    2.5 摩擦因数
3 结论



本文编号:3849538

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