电子束蒸发工艺对MgF 2 薄膜光学性能的调制与分析

发布时间：2024-04-18 06:04

　　电子束蒸发技术中,电子束流和衬底温度将显著影响薄膜生长过程及其性能。研究了核心工艺参数电子束流和衬底温度对MgF₂薄膜光学性能的影响与规律,结果显示提高电子束流和衬底温度均可导致其折射率和色散率的增大、反射率的降低。改变上述工艺参数均可实现对其折射率、色散率及反射率的调制。由于衬底温度对色散率的影响较为显著,因此改变衬底温度对其折射率的调制更加有效。MgF₂薄膜折射率变化对多层膜的反射率有较强影响,调节沉积MgF₂时的工艺参数有助于降低多层减反射膜的平均反射率。

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【文章目录】：
引言
1 实验
2 分析与讨论
    2.1 晶体结构
    2.2 折射率和色散
    2.3 反射谱分析
3 结论



本文编号：3957528