双靶磁控溅射透明导电氧化铟锡锆薄膜及其性能

发布时间：2017-08-09 03:24

  本文关键词：双靶磁控溅射透明导电氧化铟锡锆薄膜及其性能

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【摘要】：利用ITO(InSnO)靶和金属Zr靶,采用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ITO和ITZO(InSnZrO)薄膜。高价金属元素Zr的掺杂导致了薄膜向(400)晶面择优取向转变,促使ITO薄膜具有更好的晶化程度、较低的表面粗糙度和更好的光电性能。根据处于特定介质环境中ITO和ITZO薄膜的相对电阻变化(△R/R),ITZO薄膜显示了比ITO薄膜更好的化学和热稳定性。通过盐酸腐蚀前后的扫描电镜和X射线光电子能谱仪测试表明,Zr的加入提高了薄膜的稳定性,降低了氯离子穿透氧化层的能力,提高了氧化层的结构稳定性,大大降低了薄膜发生点蚀的概率。薄膜在0.1 mol/L盐酸中的极化曲线表明,ITZO薄膜发生了自钝化现象,显示了较好的耐腐蚀性能。除了晶体结构的影响之外,稳定性较好的氧化锆也提高了薄膜的化学稳定性和热稳定性。
【作者单位】： 常州机电职业技术学院;常州中科常泰等离子体技术有限公司;上海交通大学;
【关键词】： 氧化铟锡 薄膜 磁控溅射 锆 掺杂 稳定性 耐蚀性
【基金】：江苏省自然科学基金(BK20161201) 常州市科技支撑计划项目(CE20152007) 江苏高校品牌专业建设工程资助项目(PPZY2015B187) 江苏高校“青蓝工程”中青年学术带头人培养资助项目(201611)
【分类号】：TB383.2
【正文快照】： ITO(氧化铟锡InSnO)薄膜的电阻率低,可见光透过率高,作为透明导电电极材料常用于微电子器件中根据实际工作条件需要,微电子器件有时会用在一些苛刻环境中,比如化学环境、高温环境等,此时ITO薄膜的电学稳定性和使用可靠性对器件的使用寿命和性能起着关键的作用。尽管ITO薄膜表

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本文编号：643335