掺杂薄膜制备及光电学性能的研究进展
本文关键词:掺杂薄膜制备及光电学性能的研究进展
【摘要】:掺杂对于薄膜光电学性能的改善具有重要意义,通过不同的掺杂,可实现不同的光电学性能需求。综述了掺杂薄膜的制备方法和光电学性能方面的研究进展,并结合目前的研究现状,对其今后可能的发展方向进行了展望。
【作者单位】: 上海工程技术大学材料工程学院;
【关键词】: 掺杂薄膜 制备 光电学性能
【分类号】:TB43
【正文快照】: 最初,研究较多的是单物质膜的制备,然而,有些单物质不宜制备成薄膜,或制备工艺不够成熟,有时可能制备的薄膜光电学性能不够优良,无法满足现代社会对性能日益增长的需求。因此韩婧等人[1]通过Ag改性纳米Zn O薄膜,就是期望进一步提高纳米半导体薄膜的光催化活性,再如制备的Bi Fe
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,本文编号:944401
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