FDI技术外溢是否存在“门槛条件”——来自我国高技术产业的面板门限回归分析

发布时间：2019-01-03 15:01

【摘要】：本文在已有研究的基础上,认为在FDI技术外溢过程中存在着一定的"门槛条件",并基于"技术势能"假说,利用我国高技术产业数据进行实证检验。实证结果表明,外商投资规模、技术势能与潜在市场规模对FDI技术外溢的影响都具有一定的"门槛条件",只有三者在适度值范围内技术外溢积极而显著,并且与技术外溢存在着倒"U"形曲线关系。随着时间的变化,技术外溢的"门槛条件"有所提高,外溢效应有所降低。
[Abstract]:Based on the existing research, this paper holds that there are certain "threshold conditions" in the process of FDI technology spillover, and based on the hypothesis of "technology potential energy", we use the high-tech industry data to carry out empirical test. The empirical results show that the impact of foreign investment scale, technology potential energy and potential market size on FDI technology spillover has certain threshold conditions. And there is an inverted "U" curve relationship with technology spillover. With the change of time, the threshold condition of technology spillover increases and the spillover effect decreases.
【作者单位】：南京财经大学江苏产业发展研究院;
【基金】：教育部博士研究生学术新人奖暨专款资助;教育部哲学社会科学重大课题“全球金融危机对我国产业转移和产业升级的影响及对策研究”(09JZD0018) 江苏高校优势学科建设工程项目的资助
【分类号】：F224;F832.6;F276.44

【参考文献】

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【共引文献】

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