喷丸和离子注入对8Cr4Mo4V钢组织结构及性能的影响
【学位授予单位】:哈尔滨工业大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2019
【分类号】:TG142.1
【图文】:
初出现了两个主要的研究方向,一个是改善金属表面的磨损和腐蚀过氮气 PBII 处理的金属零件表面及其附近形成氮化物相[16,17]。另大面积掺杂半导体晶片和图案化结构[18-20]。在 20 世纪 80 年代和体基离子注入技术呈现指数增长,但自 1998 年以来已明显放缓的迹等离子体基离子注入技术将继续在表面改性领域发挥重要作用。子体基离子注入机制 为等离子体基离子注入装置简图[21],示意性地给出了装置的主要部室、气体供给系统、真空泵系统、等离子体源,电绝缘样品台和高借助于真空泵和气体供给装置,将具有一定气体的真空室,其正空围内。通过热阴极或射频、电子回旋共振等产生等离子体,等离子空室内,工件浸泡在等离子体氛围中。工件加上负高压脉冲,被等工件与等离子体交界处形成鞘层。被注入工件为阴极、真空室壁为下,工件表面的电子在电场作用下远离工件,而周围的正离子在电注入到工件表面,此方法克服了束线限制,能够处理形状复杂的工
哈尔滨工业大学工学硕士论文图 1-2 显示了高压脉冲期间等离子体鞘层发展的示意图[21],在脉冲期间产生的电场中,比离子移动得快得多的电子被加速远离处于负偏压的工件,留下了一个只包含离子的等离子体鞘层。离子向样品加速并被注入,等离子体鞘层扩展直到高压关闭或达到稳定状态,这取决于等离子体条件。当高压脉冲关闭时,等离子体再生,再次开始该过程。
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