AFM轻敲模式下机械加工工艺研究
【学位授予单位】:燕山大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2019
【分类号】:TH16
【图文】:
1.1 课题研究背景与意义随着纳米技术的发展,带有纳米精度的复杂微纳结构功能表面的零件如微衍射光栅、微透镜阵列、菲涅耳透镜等,如图 1-1 所示,由于具有不同于传统零件的粘附性能、摩擦性能、亲疏水和光学性能等,得到了广泛的应用。这也对微纳米加工技术提出了更高的要求。目前微纳加工技术[3]主要包括平面工艺、模型工艺和探针工艺[4, 5]三类。平面工艺通过显影技术和刻蚀技术将感光层的二维图案转移到基片上,但是较难获得三维微纳结构,并且加工设备复杂、昂贵[6]。模型工艺是利用微纳米尺寸的模具[7]复制出相应的微纳结构的加工技术,但其模具的制造工艺复杂,精度要求高,仅适合大批量生产。探针工艺是用各种微纳米尺寸的探针取代传统的机械切削刀具。探针即包括通过聚焦离子束和电子束得到小于 10nm 的束直径的非固态探针,也包括扫描隧道显微镜(SPM),原子力显微镜(AFM)的固态探针。对于非固态形式的探针,存在加工环境高、加工设备复杂、昂贵等缺点,相比之下,固态探针工艺更加经济实用。
针对轻敲模式下的加工研究则相对较少,因此本究轻敲模式下的在 PMMA 表面纳米结构的加工及其M 轻敲模式下的国外研究现状 的轻敲模式下的加工,国外学者更早进行了研究。hi 学者[28],使用单晶硅涂层探针,在轻敲模式下通过速度,实现了在聚碳酸酯(PC)表面矩形区域的加为扫描振幅的 1.2~1.5 倍时,加工区域呈现平坦的凸幅的 1.8 倍时,加工区域呈现凹陷结构,且底部平坦小而逐渐增大。作者认为出现这种现象的原因是:表面间的作用力增大,针尖刺入样品表面,从而形结构;而当振幅较小时,针尖与样品表面分离时,域形成的凸起结构。
图 1-4 单晶硅表面的沟槽阵列[29]Sturm 等人[30]基于 AFM 轻敲模式下在聚合物 P)表面进行了纳米方坑结构的加工,并且与纳米式下的加工效率更高,成本更低。作者通过对已加工区域表面的硬度和刚度均发生了变化。其量,发现凸起的体积要大于凹坑的体积,如图 1
【参考文献】
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本文编号:2762097
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