基于氮化硅薄膜纳米孔制备及DNA分子检测

发布时间：2018-04-10 14:16

  本文选题：氮化硅 + 纳米孔　； 参考：《东南大学学报(自然科学版)》2017年02期

【摘要】：通过对影响聚焦离子束溅射氮化硅纳米孔的溅射时间和离子束束流2个主要参数的研究,优化了聚焦离子束溅射纳米孔加工工艺.提出了利用聚焦离子束对氮化硅薄膜进行减薄后再溅射纳米孔的加工工艺.采用该加工工艺不仅可以减小纳米孔的直径和厚度,还可以减小纳米孔的锥度.最后利用氮化硅纳米孔研究了不同孔径的纳米孔对48 kbλ-DNA过孔姿态的影响,结果表明,孔径较大时,DNA分子过孔存在多种过孔姿态,孔径越小,DNA分子越容易被拉直过孔.同时针对DNA过孔时引起的阻塞电流,提出了简易的计算模型.
[Abstract]:Based on the study of the sputtering time and ion beam current of silicon nitride nanopores in focused ion beam sputtering, the fabrication process of focused ion beam sputtering nano-pore was optimized.The fabrication process of silicon nitride thin films by focusing ion beam and then sputtering nano-pores was put forward.This process can not only reduce the diameter and thickness of nano-pore, but also reduce the taper of nano-pore.Finally, the effects of different pore size on the perpore attitude of 48kb 位 -DNA were studied by using silicon nitride nano-pore. The results show that there are many kinds of pore postures when the pore size is larger, and the smaller the pore size is, the easier it is to straighten out the pore size of DNA molecule.At the same time, a simple calculation model is proposed for the blocking current caused by DNA passing through the hole.
【作者单位】： 东南大学微纳生物医疗器械设计与制造实验室;重庆三峡学院机械工程学院;
【基金】：国家自然科学基金资助项目(51375089,51375092)
【分类号】：TB383.1

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