TaWTiVCr高熵合金薄膜的制备及微观结构、力学性能研究
发布时间:2021-01-09 02:13
目的使用磁控溅射设备进行共沉积,制备不同元素组成的TaWTiVCr高熵合金薄膜,并对薄膜力学性能进行表征,为该体系高熵合金最佳元素组成的筛选提供依据。方法在共沉积中,通过对TaW和TiVCr两组中间合金靶的沉积电流进行调整,实现薄膜元素组成的调整。使用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、能量色散X射线光谱仪(EDX)和原子力显微镜(AFM),研究了不同元素组成下薄膜的表面形貌、粗糙度、元素组成及相结构的变化。使用纳米压痕法分析了材料的硬度和模量,通过往复磨损实验分析了材料的耐磨性,使用共聚焦显微镜(CLSM)计算磨损体积,同时将力学性能的实验数据以及热力学计算的结果相结合进行分析。结果随Ti、V、Cr含量的增加,薄膜结晶性能变差,由BCC晶体结构向BCC+非晶态混合结构转变,表面形貌由褶皱状形貌转变为凹坑状形貌,并伴有微小团聚颗粒形成。硬度和模量先升高,随后下降,其中Ta24W25Ti16V18Cr17薄膜在多种强化机制的作用下,表现出最好的力学性能,硬度和模量分别达到...
【文章来源】:表面技术. 2020,49(06)北大核心
【文章页数】:9 页
【部分图文】:
TaWTiVCr高熵合金薄膜的面扫描元素分布图
图2显示了所有样品的XRD图谱。由图可知,随Ti、V、Cr的含量增加,高熵合金薄膜结晶性能逐渐下降,呈现BCC结构向非晶结构的转变,同时,结晶峰和非晶峰的峰值位置逐渐向大角度偏移。在Ti、V、Cr的含量较低时,Ta37W36Ti8V11Cr8和Ta30W30Ti12V15Cr13薄膜在38°和71°形成两个BCC结构的衍射峰;在Ti、V、Cr的含量较高时,涂层在38°~42°之间呈现非晶峰结构,同时在71°位置的(211)衍射峰也随之消失。Ta37W36Ti8V11Cr8和Ta30W30Ti12V15Cr13薄膜中BCC晶体结构的形成主要由于Ta、W含量占据绝对优势,可以在涂层沉积过程中形成TaW固溶体,该固溶体在20°~80°范围内,会在38°、56°和71°分别形成(110)、(200)和(211)衍射峰[19-20]。本实验中的各组合金薄膜受Ti、V、Cr金属元素的影响,56°位置的衍射峰异常微弱,且几乎不可见,71°位置的衍射峰强度较38°更弱,该组别涂层中其余金属元素的含量较低。推测可能为,分散的轻质金属元素对TaW固溶体晶向的形成存在一定的取向作用,使之更倾向于形成(110)晶相的BCC结构。
随着原子尺寸差δ的增大,合金产生了更大的晶格畸变效应,一定程度上加剧了薄膜的内应力,导致了团聚颗粒的产生,故在薄膜Ta37W36Ti8V11Cr8至Ta19W19Ti19V22Cr22中,薄膜表面的团聚颗粒逐渐增多,形貌也发生相应的变化,由褶皱状形貌向凹坑转变。另一方面,较高的ΔHmix使合金倾向于形成金属间化合物,推测金属间化合物的形成导致了表面团聚颗粒的形成。在薄膜Ta15W15Ti22V24Cr25和Ta10W10Ti24V26Cr29中,受溅射电流升高的影响,薄膜表面的峰谷结构有效地吸收了晶格畸变效应产生的内应力,故涂层表面颗粒消失,但仍然保留了凹坑形貌。2.4 力学性能
本文编号:2965769
【文章来源】:表面技术. 2020,49(06)北大核心
【文章页数】:9 页
【部分图文】:
TaWTiVCr高熵合金薄膜的面扫描元素分布图
图2显示了所有样品的XRD图谱。由图可知,随Ti、V、Cr的含量增加,高熵合金薄膜结晶性能逐渐下降,呈现BCC结构向非晶结构的转变,同时,结晶峰和非晶峰的峰值位置逐渐向大角度偏移。在Ti、V、Cr的含量较低时,Ta37W36Ti8V11Cr8和Ta30W30Ti12V15Cr13薄膜在38°和71°形成两个BCC结构的衍射峰;在Ti、V、Cr的含量较高时,涂层在38°~42°之间呈现非晶峰结构,同时在71°位置的(211)衍射峰也随之消失。Ta37W36Ti8V11Cr8和Ta30W30Ti12V15Cr13薄膜中BCC晶体结构的形成主要由于Ta、W含量占据绝对优势,可以在涂层沉积过程中形成TaW固溶体,该固溶体在20°~80°范围内,会在38°、56°和71°分别形成(110)、(200)和(211)衍射峰[19-20]。本实验中的各组合金薄膜受Ti、V、Cr金属元素的影响,56°位置的衍射峰异常微弱,且几乎不可见,71°位置的衍射峰强度较38°更弱,该组别涂层中其余金属元素的含量较低。推测可能为,分散的轻质金属元素对TaW固溶体晶向的形成存在一定的取向作用,使之更倾向于形成(110)晶相的BCC结构。
随着原子尺寸差δ的增大,合金产生了更大的晶格畸变效应,一定程度上加剧了薄膜的内应力,导致了团聚颗粒的产生,故在薄膜Ta37W36Ti8V11Cr8至Ta19W19Ti19V22Cr22中,薄膜表面的团聚颗粒逐渐增多,形貌也发生相应的变化,由褶皱状形貌向凹坑转变。另一方面,较高的ΔHmix使合金倾向于形成金属间化合物,推测金属间化合物的形成导致了表面团聚颗粒的形成。在薄膜Ta15W15Ti22V24Cr25和Ta10W10Ti24V26Cr29中,受溅射电流升高的影响,薄膜表面的峰谷结构有效地吸收了晶格畸变效应产生的内应力,故涂层表面颗粒消失,但仍然保留了凹坑形貌。2.4 力学性能
本文编号:2965769
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