恒电位法电沉积聚8-羟基喹啉薄膜

发布时间：2018-12-22 07:56

【摘要】：采用恒电位法在镀镍工件表面制备聚8-羟基喹啉薄膜。研究了沉积电位、8-羟基喹啉浓度、Na OH浓度、沉积时间等工艺条件对薄膜耐蚀性的影响。分别采用盐水周浸泡试验、三氯化铁缝隙试验和Tafel极化曲线法对比研究了恒电位法电沉积试样、循环伏安法电沉积试样和空白工件的耐蚀性。采用扫描电镜表征了聚8-羟基喹啉薄膜的表面形貌。恒电位法沉积的最佳工艺条件为:8-羟基喹啉2 mmol/L,Na OH 0.4 mol/L,电位0.5 V,时间300 s,室温。采用最佳工艺所得薄膜的耐蚀性略优于循环伏安法试样,远优于空白工件。
[Abstract]:Poly (8-hydroxyquinoline) thin films were prepared on nickel-plated workpiece by potentiostatic method. The effects of deposition potential, concentration of 8-hydroxyquinoline (, Na OH) and deposition time on the corrosion resistance of the films were studied. The corrosion resistance of electrodeposition samples by potentiostatic method, cyclic voltammetry and blank workpiece were studied by saltwater week immersion test, ferric chloride gap test and Tafel polarization curve method respectively. The surface morphology of poly (8-hydroxyquinoline) thin films was characterized by scanning electron microscope (SEM). The optimum conditions for deposition by potentiostatic method are as follows: 8-hydroxyquinoline 2 mmol/L,Na OH 0.4 mol/L, potential 0. 5 V, time 300 s, room temperature. The corrosion resistance of the film obtained by the best process is slightly better than that of the sample by cyclic voltammetry and is much better than that of the blank workpiece.
【作者单位】： 江西瑞林稀贵金属科技有限公司;中南大学有色金属资源化学教育部重点实验室;中南大学化学化工学院;特能宝化学原料有限公司;
【基金】：中南大学中央高校基本科研业务费专项资金(2013zzts172)
【分类号】：TQ153

【参考文献】

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【共引文献】

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【二级参考文献】

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本文编号：2389514